[发明专利]半导体器件及方法在审
申请号: | 202110049095.6 | 申请日: | 2021-01-14 |
公开(公告)号: | CN113410230A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 黄玉莲;王冠人;傅劲逢 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/092 | 分类号: | H01L27/092;H01L21/8238 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 陈蒙 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开涉及半导体器件及方法。在实施例中,一种器件,包括:第一源极/漏极区域;第二源极/漏极区域;层间电介质(ILD)层,在第一源极/漏极区域和第二源极/漏极区域之上;第一源极/漏极接触件,延伸穿过ILD层,第一源极/漏极接触件被连接到第一源极/漏极区域;第二源极/漏极接触件,延伸穿过ILD层,第二源极/漏极接触件被连接到第二源极/漏极区域;以及隔离特征,在第一源极/漏极接触件和第二源极/漏极接触件之间,该隔离特征包括电介质衬里和空隙,电介质衬里围绕空隙。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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