[发明专利]使用低频偏置脉冲的等离子体加工方法在审
| 申请号： | 202080095949.8 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN115066735A | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 阿洛科·兰詹;彼得·文特泽克;大幡光德 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杜诚;刘敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种等离子体加工方法包括：在第一源功率(SP)脉冲持续时间内向SP耦合元件提供第一SP脉冲，以在加工室中生成等离子体；在与该第一SP脉冲持续时间重叠的高频偏置功率(HBP)脉冲持续时间内向设置在该加工室中的衬底固持器提供HBP脉冲；以及在不与该第一SP脉冲持续时间重叠的第一低频偏置功率(LBP)脉冲持续时间内向该衬底固持器提供第一LBP脉冲。该HBP脉冲包括大于800kHz的HBP脉冲频率。该第一LBP脉冲包括小于约800kHz的LBP脉冲频率。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 低频 偏置 脉冲 等离子体 加工 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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