[实用新型]一种薄膜真空等离子体处理设备有效
| 申请号： | 202020163288.5 | 申请日： | 2020-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN210956594U | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 刘鑫培;沈文凯;王红卫 | 申请（专利权）人： | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 苏州科洲知识产权代理事务所(普通合伙) 32435 | 代理人： | 王悦 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种薄膜真空等离子体处理设备，所述真空等离子体处理设备包括：多级抽真空单元、支撑单元及迂回部组合单元；所述迂回部组合单元位于真空等离子体处理设备的中部，用于对薄膜材料进行等离子体处理，所述多级抽真空单元位于真空等离子体处理设备的两侧，确保迂回部组合单元内部保持真空环境，所述支撑单元位于多级抽真空单元和迂回部组合单元的外侧，起支撑和保护作用。所述真空等离子体处理设备采取多级抽真空的方式实现迂回部组合单元内部的真空状态，以提供稳定的辉光放电环境，薄膜可以穿过真空等离子体处理设备做连续运动，放电产生的等离子体对迂回部组合单元内部的薄膜进行处理，既能兼顾薄膜处理的连续性，又能保证处理环境的密封性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 真空 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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