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[发明专利]一种半封闭双腔真空DBD设备-CN202110446753.5有效
发明人：王红卫;刘鑫培 -专利权人： 苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种半封闭双腔真空DBD，所述半封闭双腔真空DBD包括结构单元、控制单元、电极单元和抽真空单元；所述结构单元起承载控制单元和电极单元的作用；所述控制单元分别与结构单元和电极单元连接；所述电极单元分别与结构单元和控制单元连接，通过处于常压状态下的正极与外部的负极形成DBD放电产生等离子体，对薄膜类材料进行等离子体处理；所述抽真空单元与电极单元连接。本发明将正极设置在玻璃管内部，所述玻璃管内部为常压状态，通过处于常压状态下的正极与外部的负极形成DBD放电产生等离子体，同时对两个腔室中的薄膜类材料的特定部位进行处理，进而达到材料表面处理均匀、处理效率快、集成度高、操作简单等技术效果。
一种封闭真空 dbd 设备

[发明专利]一种常压滚筒式粉体改性装置-CN202011618034.9有效
发明人：易强;刘鑫培;王红卫;沈文凯 -专利权人：苏州睿祥宝材料科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种常压滚筒式粉体改性装置，所述常压滚筒式粉体改性装置包括电极单元、驱动单元、进出气单元及结构单元，所述电极单元设置在所述装置的中央位置，通过电路与电源(图中未示出)和地面(图中未示出)连接，所述驱动单元与电极单元连接，所述进出气单元与电极单元连接，所述结构单元与驱动单元、进出气单元连接。所述装置的使用方法如下：空压机和真空泵在滚筒内形成螺旋气流，所述滚筒在从动轮的带动下开始转动，滚筒内的粉体材料在搅拌片和螺旋气流的双重作用下，充满滚筒内部空间，所述电极上的三角形金属片尖端与滚筒在常压状态下放电产生等离子体，从而提高等离子体对粉体材料处理的均匀性。
一种常压滚筒体改装置

[发明专利]一种半封闭双腔管状阵列电极设备-CN202110446751.6有效
发明人：王红卫;刘鑫培 -专利权人： 苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种半封闭双腔管状阵列电极，所述半封闭双腔管状阵列电极包括结构单元、控制单元、电极单元和抽真空单元，所述结构单元为可移动的框架箱体结构，所述控制单元分别与结构单元和电极单元连接，所述电极单元分别与结构单元和控制单元连接，电极单元的正负电极均采用管状结构形式，通过将正负电极等间距间隔设置形成阵列电极，对薄膜类材料进行等离子体处理，所述抽真空单元与电极单元连接。本发明通过分别将两份薄膜类材料的特定部位放置在电极单元内部，所述阵列电极在低压状态下放电产生等离子体，同时对两个腔室中的薄膜类材料的特定部位进行处理，进而达到材料表面处理均匀、处理效率快、集成度高、操作简单等技术效果。
一种封闭管状阵列电极设备

[发明专利]一种多料盒半自动式等离子体处理装置及其使用方法-CN202010056276.7有效
发明人：刘鑫培;沈文凯;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-01-18 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种多料盒半自动式等离子体处理装置及使用方法，包括机箱、真空腔、升降组件、平移组件、弹夹料架及夹板组件；所述机箱内设置有机架，所述真空腔、升降组件、平移组件、弹夹料架及夹板组件均固定在所述机架上；所述弹夹料架设置在所述升降组件上，所述夹板组件设置在所述平移组件上；该使用方法操作简单，使用方便，适用性强；本发明解决现有技术中对弹夹式产品等离子体处理强度不足、处理效率低、处理均匀性有限的缺陷，本发明实现对弹夹式多料盒产品进行半自动化等离子体处理，提高处理效率，提高等离子体处理的强度，提高等离子体处理的均匀性，从而提高产品的处理质量。
一种多料盒半自动等离子体处理装置及其使用方法

[发明专利]一种处理液体的等离子体装置-CN201911413711.0有效
发明人：王红卫;刘鑫培;沈文凯 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理液体的等离子体装置，包括机架、高压装置、转向组件、低压装置；所述高压装置、转向组件、低压装置均设置在所述机架上，所述高压装置通过所述转向组件与所述低压装置连通；所述高压装置包括高压罐、高压上盖、进液口及进气口；所述低压装置包括低压上盖、低压下盖、低压玻璃管、电极柱；本发明解决现有技术中液体等离子体处理所存在的处理不均匀、处理量小等缺陷，本发明借助高压环境，将气体融入液体中，然后再突变为低压环境，气体从液体内以气泡状态析出，且气泡直径非常微小，达到气体与也液体充分接触的目的，并实现等离子体放电，提高放电效果和处理的均匀性，从而提高对产品的处理效果。
一种处理液体等离子体装置

[发明专利]一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法-CN202010175882.0有效
发明人：沈文凯;檀靓;刘鑫培;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本发明涉及一种半离线式等离子体处理设备及使用方法，该处理设备包括输送线机架、传输组件、真空腔、运动组件、真空吸盘组件及支撑架；所述传输组件设置在所述输送线机架上方，所述传输组件用于传输工件托盘；所述动力组件设置在所述支撑架上方，所述动力组件用于驱动所述真空吸盘组件的上下、左右移动；所述真空吸盘组件用于抓放工件托盘；该使用方法操作简单，使用方便，适用性强；本发明解决现有等离子体处理设备多为固定机箱结构，灵活性差，不能适应产品流水线式作业生产的缺陷，实现了流水线等离子体处理，同时，满足对产品加工流水线设备改造的需求，提高了等离子体处理效率，提高了设备适用性和灵活性。
一种离线等离子体处理设备及其使用方法

[发明专利]一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法-CN202010247446.X有效
发明人：王红卫;沈文凯;徐云峰 -专利权人： 苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法，所述辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备包括金属粉筒单元、电极单元(图中未示出)及辊轮单元，所述金属粉筒单元的结构形式是带搅拌片和搅拌颗粒的圆柱形空心桶，用于承载电极单元，所述电极单元与金属粉筒单元连接，用于在金属粉筒单元内部放电产生等离子体，所述辊轮单元与金属粉筒单元连接，用于给金属粉筒单元提供动力。所述设备的使用方法如下：根据目标产品选择具有合适的弯折角度的搅拌片，随着金属粉筒单元的滚动，所述设备内的工业粉体在搅拌片和搅拌颗粒作用下，由金属粉筒单元上方不同位置均匀下落，从而充分利用设备内部放电空间，提高等离子体对工业粉体处理的均匀性。
一种驱动滚筒工业处理设备及其方法

[实用新型]一种半封闭薄膜处理设备-CN202023293445.3有效
发明人：刘鑫培;王红卫;沈文凯;侯梦瑶 -专利权人： 苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B29C59/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半封闭薄膜处理设备，所述半封闭薄膜处理设备包括结构单元、控制单元、电极单元和抽真空单元，所述结构单元为可移动的框架箱体结构，所述控制单元设置在所述箱体内部，分别与结构单元和电极单元连接，所述电极单元设置在所述箱体内部，分别与结构单元和控制单元连接，对薄膜类材料进行等离子体处理，所述抽真空单元设置在所述框架上，与电极单元连接。本实用新型通过将薄膜类材料的一部分放置在等离子体处理装置内部，在保证等离子体处理设备密封性的前提下，对薄膜类材料的一部分进行处理，进而达到材料表面处理均匀、集成度高、操作简单等技术效果。
一种封闭薄膜处理设备

[实用新型]一种真空抛洒式粉体处理装置-CN202023296295.1有效
发明人：易强;刘鑫培;王红卫;沈文凯 -专利权人：苏州睿祥宝材料科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空抛洒式粉体处理装置，所述真空抛洒式粉体处理装置包括腔体单元、搅拌单元、电极单元和抽真空单元，所述腔体单元为封闭式的拱形腔体结构，所述搅拌单元设置在腔体单元的内部，与腔体单元连接，所述电极单元设置在腔体单元的左右两端，与腔体单元连接，所述抽真空单元设置在腔体单元右侧，与腔体单元连接。本实用新型通过在分体处理装置内部设置搅拌器，在保证粉体处理装置内部处于真空环境的前提下，所述搅拌器抛洒粉体材料使其均匀分布于放电空间中，进而达到处理均匀、密封性好、适配性广等技术效果。
一种真空抛洒式粉体处理装置

[实用新型]一种半封闭双腔平板真空总成-CN202023296279.2有效
发明人：檀靓;刘鑫培;沈文凯;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半封闭双腔平板真空总成，所述半封闭双腔平板真空总成包括结构单元、控制单元、电极单元和抽真空单元，所述结构单元为可移动的框架箱体结构，所述控制单元设置在所述箱体内部，分别与结构单元和电极单元连接，所述电极单元设置在所述箱体内部，分别与结构单元和控制单元连接，对薄膜类材料进行等离子体处理，所述抽真空单元设置在所述框架上，与电极单元连接。本实用新型通过分别将两份薄膜类材料的特定部位放置在双腔平板真空总成内部，在保证双腔平板真空总成密封性的前提下，同时对两份薄膜类材料的特定部位进行处理，进而达到材料表面处理均匀、处理效率快、集成度高、操作简单等技术效果。
一种封闭平板真空总成

[实用新型]一种用于纤维的在线式次真空等离子处理装置-CN201922495551.0有效
发明人：王红卫;刘鑫培;沈文凯 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： D06M10/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于纤维的在线式次真空等离子处理装置，所述次真空等离子处理装置包括：真空抽气接头，密封接头，放电单元及支撑单元。放电单元包括正极连接板、负极连接板、玻璃管，以及绝缘板；支撑单元包括支撑架、中央支座、端头支座，以及底座。在所述次真空等离子处理装置中，通过真空泵在玻璃管内营造出一种次真空环境，实现稳定辉光放电，纤维材料在穿过玻璃管进行移动的过程中完成等离子处理，扩展了处理材料的适用范围，大大提升处理效率。
一种用于纤维在线真空等离子处理装置

[实用新型]一种整卷织物的等离子体处理设备-CN202020163297.4有效
发明人：沈文凯;檀靓;刘鑫培;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： D06M10/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于整卷织物的等离子体处理设备，所述设备包括：离子体发生单元、抽真空单元及结构单元。等离子体发生单元包括正极单元和负极单元，正极单元设置于整卷织物的内部，负极单元设置于整卷织物的外部，抽真空单元包括真空泵和真空快卸连接器，抽真空单元设置于所述负极单元底部，所述结构单元包括腔盖、压紧绝缘板、锁紧螺栓、挡圈，结构单元设置于正极单元各组件之间，起连接和紧固作用。在所述设备中，通过真空泵在设备内营造出一种稳定的低压环境，整卷织物在正极单元和负极单元之间，正极单元和负极单元通过辉光放电产生等离子体，从整卷织物孔隙间穿过，在保证处理质量的同时，大大提升处理效率。
一种织物等离子体处理设备

[实用新型]一种小型化卷材等离子体处理装置-CN201922461991.4有效
发明人：沈文凯;刘鑫培;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种小型化卷材等离子体处理装置，包括真空腔、放料组件、收料组件、电极板、驱动组件；所述真空腔包括腔体、前盖板、后盖板，所述前盖板一侧与所述腔体通过铰链固定连接，另一侧通过把手组件与所述腔体固定连接；所述真空腔内设置有机架，所述放料组件、收料组件、电极板均设置在所述机架上；本实用新型解决了现有技术中等离子体处理设备主要是针对片材进行处理，等离子体均匀性差，处理效率低的缺陷，本实用新型能够实现对卷材进行等离子体处理，等离子体处理的均匀性好，等离子体处理效果佳，处理效率高，从而提高产品的质量。
一种小型化卷材等离子体处理装置

[实用新型]一种薄膜真空等离子体处理设备-CN202020163288.5有效
发明人：刘鑫培;沈文凯;王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种薄膜真空等离子体处理设备，所述真空等离子体处理设备包括：多级抽真空单元、支撑单元及迂回部组合单元；所述迂回部组合单元位于真空等离子体处理设备的中部，用于对薄膜材料进行等离子体处理，所述多级抽真空单元位于真空等离子体处理设备的两侧，确保迂回部组合单元内部保持真空环境，所述支撑单元位于多级抽真空单元和迂回部组合单元的外侧，起支撑和保护作用。所述真空等离子体处理设备采取多级抽真空的方式实现迂回部组合单元内部的真空状态，以提供稳定的辉光放电环境，薄膜可以穿过真空等离子体处理设备做连续运动，放电产生的等离子体对迂回部组合单元内部的薄膜进行处理，既能兼顾薄膜处理的连续性，又能保证处理环境的密封性。
一种薄膜真空等离子体处理设备

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