[实用新型]一种双位多靶离子束沉积装置有效
| 申请号： | 202020108027.3 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN211771529U | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 王燕丽;王昕涛 | 申请（专利权）人： | 东莞市鑫钛极真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/28;C23C14/50 |
| 代理公司： | 东莞众业知识产权代理事务所(普通合伙) 44371 | 代理人： | 何恒韬 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种双位多靶离子束沉积装置，包括机架、真空镀膜室、激光器、主离子源、辅离子源、旋转靶座和基片架，真空镀膜室装设于机架上，主离子源、旋转靶座和基片架均设于真空镀膜室内，基片架夹设有基片，主离子源和旋转靶座均为两个，一个旋转靶座上安装有四种不同的靶材，基片架的中心线与两旋转靶座的中心线相互重叠，两主离子源分设于基片架的两侧，主离子源的发射口对准旋转靶座，辅离子源设置于真空镀膜室下方，辅离子源的发射口对准基片，真空镀膜室设有石英窗，激光器发出的激光束穿过石英窗射入靶材上。本实用新型能同时镀两种材料，形成合金材料，能实现新型理想的功能材料，提高镀膜质量，提高沉积效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双位多靶 离子束 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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