[发明专利]离子注入系统、确定离子束的轮廓的方法和执行剂量控制的方法有效
申请号: | 201480062577.3 | 申请日: | 2014-11-20 |
公开(公告)号: | CN105723247B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 佐藤秀 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯科技公司 |
主分类号: | G01T1/34 | 分类号: | G01T1/34 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 杨静 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了一种离子注入系统和方法,其中,离子源产生离子,质量分析器对离子束进行质量分析。束轮廓确定装置在预定时间内沿轮廓确定平面平移通过离子束,其中,束轮廓确定装置与所述平移并发地横跨离子束的宽度来测量束电流,其中限定离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓。束监测装置被配置为测量所述预定时间内在离子束的边缘处的离子束电流,其中限定与时间相关的离子束电流,以及控制器通过将离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓除以与时间相关的离子束电流来确定与时间无关的离子束轮廓,其中抵消离子束电流在所述预定时间内的波动。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 横向 强度 分布 方法 | ||
【主权项】:
1.一种离子注入系统,其特征在于包括:离子源,被配置为产生离子束,所述离子束具有与其相关联的离子束电流;质量分析器,被配置为对离子束进行质量分析;束轮廓确定装置,被配置为在预定时间内沿轮廓确定平面平移通过离子束,其中,束轮廓确定装置还被配置为与所述平移并发地横跨离子束的宽度来测量束电流,其中限定离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓;束电流监测装置,其中,束监测装置被配置为在所述预定时间内测量离子束的离子束电流,其中限定与时间相关的离子束电流;以及控制器,被配置为在同步时间收集来自束轮廓确定装置和束电流监测装置的束电流数据,并通过将离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓除以与时间相关的离子束电流来确定与时间无关的离子束轮廓,其中抵消离子束电流在所述预定时间内的波动。
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