[发明专利]化学机械研磨的方法在审
申请号: | 202010977945.4 | 申请日: | 2020-09-17 |
公开(公告)号: | CN112518572A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 王上瑜;龚俊豪;蔡晴翔;陈科维;黄惠琪 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;H01L21/67;H01L21/768 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳;郑特强 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种化学机械研磨的方法包括将研磨头放置在平台上,此研磨头包括第一磁铁组,以及控制第二磁铁组以在平台上旋转研磨头,其中控制第二磁铁组包括反转第二磁铁组中的至少一个第二磁铁的极性,以在第一磁铁组的至少一个第一磁铁上产生磁力,其中第二磁铁组在研磨头的外部。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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