[发明专利]基于源场板的单片异质集成Cascode结构场效应晶体管及制作方法在审

专利信息
申请号: 202010747894.6 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111863807A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 张春福;张苇杭;武毅畅;张家祺;杨国放;陈大正;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/778;H01L29/78;H01L29/40;H01L21/336
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于源场板的单片异质集成Cascode结构场效应晶体管,主要解决现有Cascode结构场效应晶体管击穿特性较差的问题。其包括:衬底(1)、GaN缓冲层(2)、AlGaN势垒层(3)和SiN隔离层(4),SiN隔离层中间刻有隔离槽(17);隔离槽的一侧印制有Si有源层(5),以制备Si金属氧化物半导体场效应晶体管;隔离槽的另一侧横向依次设有第二源电极(6)、第二栅电极(7)和第二漏电极(8),该源漏电极之间区域上设有钝化层(16),该钝化层和第二源电极上淀积有源场板(9),形成GaN高电子迁移率晶体管。本发明具有显著的击穿特性,可用作汽车、航空航天和发电站的电源转换器或反相器。
搜索关键词: 基于 源场板 单片 集成 cascode 结构 场效应 晶体管 制作方法
【主权项】:
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