[发明专利]掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法有效
| 申请号： | 202010588550.5 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111676446B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 郭登俊;周俊吉;杨博文;张文畅;马超;伍青峰;罗小龙;杜志林;石应东;易烁文;吕文旭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法，属于蒸镀领域。掩膜板包括掩膜板主体和掩膜条。掩膜板主体包括多个凹槽，多个凹槽间隔分布在掩膜板主体的第一表面，凹槽内布置有镂空结构；掩膜条位于掩膜板主体上，掩膜条的图形区域位于凹槽在第一表面的正投影内。在基板与掩膜条贴合的过程中，基板对掩膜条产生朝向掩膜板主体的力，使掩膜条的中间部分向凹槽内移动，使得掩膜条的中间部分与基板之间无摩擦力。在基板下放过程中，减小了掩膜条的图形区域的移动，减小了掩膜条的弯曲程度，提高了蒸镀形成的像素区域的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 板结 制作方法 | ||
【主权项】：
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