[发明专利]一种含等离子体的气相沉积装置及其应用

摘要

本发明涉及一种含等离子体的气相沉积装置及其应用，包括依次连接的进气系统、反应系统和废气处理系统；所述的进气系统向反应腔原位供应反应气体，进行气相沉积；所述反应系统中的反应腔内设有等离子体发生器和反应腔加热器，通过等离子控制器和温度控制显示器分别控制和实时监控等离子体发生器和反应腔内温度，对基底进行等离子体处理和气相沉积过程。与现有技术相比，本发明在较为简单的条件下利用等离子体技术对材料表面处理，并进行可控的气相沉积反应过程，满足了多层次制备新复合材料的技术需求；操作简单、反应条件温和、装置结构简单并且绿色环保。