[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010097903.1 | 申请日： | 2020-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN111668084A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 高桥大辅;中谷政次 | 申请（专利权）人： | 日本电产株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;李平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，具备工作台、和与载置在上述工作台上的被处理物对置地配置的对置电极部，利用在上述对置电极部与上述被处理物之间产生的等离子体对上述被处理物进行处理，上述等离子体处理装置具备：通过使上述工作台与上述对置电极部相对移动来调整上述被处理物与上述对置电极部之间的距离的移动机构；以及根据通过由电源部对上述对置电极部施加电压而产生的电流来控制上述移动机构的控制部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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