[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，具备工作台、和与载置在上述工作台上的被处理物对置地配置的对置电极部，利用在上述对置电极部与上述被处理物之间产生的等离子体对上述被处理物进行处理，

上述等离子体处理装置的特征在于，具备：

移动机构，其通过使上述工作台与上述对置电极部相对移动，来调整上述被处理物与上述对置电极部之间的距离；以及

控制部，其根据通过由电源部对上述对置电极部施加电压而产生的电流，来控制上述移动机构。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

利用大气压下的等离子体放电对上述被处理物进行处理。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还具备电流计，该电流计配置在与上述工作台连接的电流路径并检测上述电流。

4.根据权利要求1至3任一项中所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述移动机构使上述对置电极部移动。

5.根据权利要求1至4任一项中所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还具备第一促动器，该第一促动器使上述工作台和上述对置电极部的至少一方沿与上述移动机构的移动方向垂直的预定方向移动。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

位移计，其计测上述被处理物的被处理面的高度；以及

第二促动器，其使上述工作台和上述位移计的至少一方沿上述预定方向移动，

上述控制部基于上述位移计的计测结果和上述电流来控制上述移动机构。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还具备计测上述被处理物的被处理面的高度的位移计，

上述控制部基于上述位移计的一个部位的计测结果和上述电流来控制上述移动机构。

8.根据权利要求1至7任一项中所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述控制部按照根据预定基准区分出的上述被处理物来存储上述被处理物和上述对置电极部之间的距离与电流值的关系性。

9.根据权利要求1至8任一项中所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述控制部基于上述电流的检测结果来修正所存储的上述被处理物和上述对置电极部之间的距离与电流值的关系性。

10.根据权利要求1至9任一项中所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

第三促动器，其使上述工作台移动；

绝缘部，其配置在上述工作台与上述第三促动器之间；以及

电流计，其配置于与上述工作台连接的电流路径并检测上述电流。