[发明专利]等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种等离子体处理装置，具备工作台、和与载置在上述工作台上的被处理物对置地配置的对置电极部，利用在上述对置电极部与上述被处理物之间产生的等离子体对上述被处理物进行处理，上述等离子体处理装置具备：通过使上述工作台与上述对置电极部相对移动来调整上述被处理物与上述对置电极部之间的距离的移动机构；以及根据通过由电源部对上述对置电极部施加电压而产生的电流来控制上述移动机构的控制部。

技术领域

本发明涉及一种等离子体处理装置。

背景技术

现今，大多利用以下技术：使密闭容器的内部减压来产生等离子体，对配置在该密闭容器内的工件进行等离子体处理。另外，近年来，确立了在大气压下稳定地进行等离子体放电的技术，实现了开放空间内的等离子体处理。由此，不需要耐减压的稳固的密闭容器，能够实现廉价的等离子体处理装置。

专利文献1公开这样的在大气压下进行等离子体处理的现有的等离子体处理装置。上述专利文献1的等离子体处理装置具备被施加电压的HOT电极和覆盖HOT电极的表面的电介质。并与电介质对置地配置具有导电性的被处理物。

向电介质与被处理物之间供给处理气体，对HOT电极施加电压来在HOT电极与被处理物之间产生放电。使因放电而等离子体化后的处理气体与被处理物的表面接触，对上述表面进行等离子体处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-115616号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在上述专利文献1中，例如因被处理物的表面的高度位置的偏差，有电介质与上述表面之间的距离不恒定的担忧，从而有无法进行稳定的等离子体放电的担忧。

鉴于上述状况，本发明的目的在于提供一种能够使等离子体放电变得稳定的等离子体处理装置。

用于解决课题的方案

本发明示例的等离子体处理装置具备工作台、和与载置在上述工作台上的被处理物对置地配置的对置电极部，上述等离子体处理装置利用在上述对置电极部与上述被处理物之间产生的等离子体对上述被处理物进行处理，上述等离子体处理装置具备：移动机构，其通过使上述工作台与上述对置电极部相对移动，来调整上述被处理物与上述对置电极部之间的距离；以及控制部，其根据通过由电源部对上述对置电极部施加电压而产生的电流，来控制上述移动机构。

发明的效果

根据本发明示例的等离子体处理装置，能够使等离子体放电变得稳定。

附图说明

图1是简要地示出第一实施方式的等离子体处理装置的整体结构的图。

图2是示出被处理物和对置电极部之间的距离与放电电流的电流值的关系性的一例的图。

图3是示出第一实施方式的等离子体处理装置中的施加给电压施加电极的输出电压、和由电流计检测到的检测电流信号的波形例的图。

图4是比较例的等离子体处理装置中的施加给电压施加电极的输出电压、和由电流计检测到的检测电流信号的波形例的图。

图5是示出被处理物的处理工序的第一例的俯视图。

图6是示出被处理物的处理工序的第二例的俯视图。

图7是示出使对置电极部移动的促动器的一例的俯视图。

图8是简要地示出第二实施方式的等离子体处理装置的局部结构的图。

图9是简要地示出第三实施方式的等离子体处理装置的局部结构的图。

图中：