[发明专利]半导体结构在审

专利信息
申请号: 202010069839.6 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN113224010A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 陈志谚;蔡信锠;吴俊仪;黄嘉庆;萧智仁;张维展;法兰斯沃·艾贝尔 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L23/31;H01L23/495;H01L29/778
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;孙乳笋
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种半导体结构,包含基板、化合物半导体层、栅极结构、源极结构及漏极结构以及导电胶。化合物半导体层设置于基板上。栅极结构设置于化合物半导体层上。源极结构及漏极结构设置于栅极结构的两侧。并且,导电胶设置于基板以及引线框架之间,且导电胶延伸于基板的侧表面上。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
暂无信息
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