[发明专利]一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法有效
| 申请号： | 202010056528.6 | 申请日： | 2020-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN111155056B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 牛江川;贺自名;李素娟;申永军;杨绍普;邢海军;王军 | 申请（专利权）人： | 石家庄铁道大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54;G05B11/42 |
| 代理公司： | 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 050043 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法,搭建监控系统，并进行在线监控，所述在线监控具体步骤包括：(1)开启测控系统，输入RBF网络和PID参数初始数据，(2)打开真空镀膜设备，(3)利用晶体探头传感器测量附加质量负载的石英晶体振荡的谐振频率，通过谐振频率的改变来确定沉积薄膜质量，然后计算出蒸发速率v和实时膜厚的数值h；(4)蒸发速率发生偏移时，通过RBF神经网络自校正PID控制算法及时调整控制功率以维持蒸发速率的稳定。本发明可以实时监测薄膜厚度、蒸发速率并控制速率的稳定，工作人员通过观察镀膜过程中参数的数值显示与变化情况可以实时的了解工作状况以确保镀膜质量以及镀膜过程中的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 过程 薄膜 厚度 蒸发 速率 测控 方法 | ||
【主权项】：
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