[实用新型]一种高温化学气相沉积加热系统有效

申请号：	201920281922.2	申请日：	2019-03-06
公开（公告）号：	CN209669346U	公开（公告）日：	2019-11-22
发明（设计）人：	陈宇;严丽红	申请（专利权）人：	张家港迪源电子科技有限公司
主分类号：	C23C16/44	分类号：	C23C16/44
代理公司：	32304 苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙)	代理人：	马丽丽<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址：	215600 江苏省苏州市张家港市杨***	国省代码：	江苏;32
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摘要：	本实用新型公开了一种高温化学气相沉积加热系统，解决了现有加热系统无法对沉积反应桶内进行快速加热，加热系统绝缘性差，热辐射大，使用完毕后无法对加热桶进行快速散热的问题，其包括反应桶体，所述反应桶体内部安装有散热组件，反应桶体外部两侧均安装有传热板，传热板外部位于反应桶体外部位置处安装有加热层，加热层内部安装有加热线圈，反应桶体顶端安装有保温盖，本实用新型，结构紧凑，便于优化现有加热系统，使加热系统可以对加热桶内部进行快速加热，便于内部反应更加高效，增强了系统的绝缘性，防止热辐射对外界造成伤害，反应完毕后可对加热桶进行快速降温，使化学气相沉积加热系统更加完善。
搜索关键词：	加热系统反应桶加热桶本实用新型快速加热传热板绝缘性热辐射化学气相沉积顶端安装高温化学快速降温快速散热内部安装气相沉积散热组件外部位置保温盖加热层热线圈体内部外部热层沉积伤害优化
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【主权项】：

1.一种高温化学气相沉积加热系统，包括反应桶体(1)，其特征在于，所述反应桶体(1)内部安装有散热组件(2)，反应桶体(1)外部两侧均安装有传热板(3)，传热板(3)外部位于反应桶体(1)外部位置处安装有加热层(4)，加热层(4)内部安装有加热线圈(5)，反应桶体(1)顶端安装有保温盖(6)，保温盖(6)顶端位于加热层(4)外部位置处安装有隔离组件(7)，隔离组件(7)外部安装有水冷层(8)，水冷层(8)底端安装有保温层(9)，反应桶体(1)内部贯穿水冷层(8)安装有废气口(10)，反应桶体(1)底端内侧贯穿保温层(9)底端安装有排气口(11)。/n

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摘要：本实用新型公开了一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括腔室；用于提供气体的气柜；在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。本实用新型通过远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。

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摘要：本实用新型公开了一种真空镀膜的沉积装置，该种真空镀膜的沉积装置包括机架、沉积室、轴套、转轴、从动带轮、电机、主动带轮、齿形皮带和旋转组件，所述机架上固定有沉积室，沉积室底部安装有轴套，轴套里通过轴承插装有转轴，转轴底部安装有从动带轮，机架侧端还设有电机，电机的电机轴上安装有主动带轮，从动带轮和主动带轮通过齿形皮带连接，沉积室内的转轴上设置有旋转组件。通过上述方式，本实用新型结构紧凑，运行平稳，能够对多种类型以及尺寸的产品进行镀膜处理，保证镀膜的均匀性，减少镀膜死角，效率高。

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摘要：实施例包括：作为在用于对在晶片上进行外延生长的外延反应器的重新启动进行准备的过程中在反应室的内部进行烘烤的步骤，随时间阶段性增大反应室的温度的步骤；以及通过反应室侧面设置的主阀和狭缝阀向基座上部和下部引入氢气的步骤。因此，反应室内部的环境随着用于将热传递到反应室中的热源的功率阶段性地增大而变得不稳定，从而使停滞的湿气和污染物流动并且有效地排出该停滞的湿气和污染物。

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摘要：本发明属于原子层沉积设备领域，并具体公开了一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓，进料仓用于控制纳米颗粒进入第一反应室，纳米颗粒在第一反应室中利用超声振动网打散，与第一前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物；经过清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中，并在第二反应室内部利用超声振动网打散，且与第二前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物，最后送入出料仓中。本发明可实现纳米颗粒表面薄膜的连续均匀沉积，且无团聚现象。

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申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本发明涉及MPCVD设备技术领域，具体是一种用于MPCVD的张紧装置，用于解决现有技术中不能及时的测量和调节MPCVD设备中连杆张紧力的问题。本发明包括反应腔体、波导腔体和连杆，所述连杆上还安装有位于波导腔体下方的张紧装置，所述张紧装置包括张紧组件、弹性元件、托盘、预紧件、张紧件和称重传感器，所述称重传感器与显示器电性连接。本发明中由于连杆的张紧力发生变化会导致弹性元件的预紧力发生变化，而通过张紧装置中的重力传感器可以随时的测量出弹性元件的预计力并显示在显示器上，所以通过显示器可以随时看到连杆张紧力的变化，从而可以及时的测量出连杆张紧力的变化，进而可以及时的对连杆的张紧力进行调整。

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摘要：本发明属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域，具体涉及一种循环媒介自动控温、热传导气体传导温度的晶圆反应台，所述晶圆反应台通过上台面、稳流板和下台面按顺序焊接，所述上台面和稳流板之间形成媒介循环空腔，所述稳流板和下台面之间形成热传导气体稳流室，从而构成独立的循环媒介通道和热传导气体通道，媒介循环通道利用媒介的循环，对晶圆反应台进行温度的控制，媒介循环通道分布在晶圆反应台内部；热传导气体通道，能够将晶圆的温度传递给晶圆反应台，更有效的控制晶圆的温度。

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申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本实用新型涉及一种推送机构和化学气相沉积机台，所述推送机构推动加热体运动，该加热体具有初始位置和目标位置，该推送机构包括：磁场发生器，用以产生磁场；驱动装置，与加热体连接，用以驱动加热体运动；导体，用以与加热体同步运动；以及，处理装置，与导体连接并形成回路；其中，导体被配置为，加热体从初始位置运动至目标位置的过程中，切割磁场的磁感线产生感应电流；处理装置被配置为，用以接收感应电流，并根据感应电流得到加热体的运动距离，根据加热体的运动距离确定加热体当前的位置。所述化学气相沉积机台包括所述推送机构。本实用新型的优点在于，导体与加热体同步运动，并切割磁感线产生感应电流，而精确地得到加热体的当前位置。

一种可以在真空环境下连续进出料的CVD/PECVD设备-201810726973.1
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摘要：本发明涉及一种可以在真空环境下连续进出料的CVD/PECVD装置，属于化学气相沉积(CVD)设备的技术领域，装置包括三个腔体，分别为：进料腔、反应腔、冷却腔；其中，反应腔内设有电传输机构、感温组件和支撑机构；进料腔和冷却腔内有基底材料及其载体的输送系统；其中，各腔体还配备有各自的输气、抽气系统。通过本发明提供的技术方案，实现了在CVD/PECVD制造碳材料的工艺过程中，无须改变反应腔室的温度和真空度就可以进出料的技术效果，解决了现有的CVD/PECVD设备必须在反应腔室降温和恢复大气压后才能出料和重新填料的工艺问题，提高了生产效率。

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申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本实用新型公开了一一种保持沉积腔清洁的装置，属于化学气相沉积技术领域，包括通过联接环安装在沉积腔侧壁上的加热器及通过空气阀安装在加热器上的至少一个空气过滤器，联接环与沉积腔连通，加热器与空气过滤器之间通过空气阀连通，空气过滤器的一侧设有与其连通的进气口，当沉积腔内待加工件被取出时，沉积腔压力回到正常大气压下，沉积腔外的空气通过空气过滤器过滤，沉积腔外气体通过空气阀进入沉积室内。本实用新型腔外气体通过空气过滤器和加热器进入沉积室内，避免造成成膜后产品表面颗粒吸附，保证加工件在真空沉积室内镀膜后其表面质量的洁净要求，有效的提高加工的产品质量。

冷却装置-201810635334.4
发明人：张新云 -专利权人：深圳市永盛隆科技有限公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本发明提供了一种冷却装置，包括：用于冷却物料的冷却腔，冷却腔包括相互连通的第一腔室和第二腔室，第一腔室由第一腔壁围成，第二腔室由第二腔壁围成；第一冷却部，用于冷却第一腔室内的物料，且第一冷却部能够调节第一腔室的温度；第二冷却部，用于冷却第二腔室内的物料。通过本发明提供的技术方案，由于第一冷却部能够调节第一腔室的温度，这样可根据使用需要单独改变第一腔室的温度，从而实现了冷却装置局部温度的调节。

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申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本发明提供了一种基于双功能反应炉的工艺方法，所述基于双功能反应炉的工艺方法包括的步骤：1）提供一双功能反应炉；2）将待处理基底经由炉门组件传入炉管内，并向炉管内提供生长源以在待处理基底表面形成目标材料或向炉管内提供刻蚀源以对待处理基底表面的目标材料进行刻蚀；3）于不低于60℃的温度条件下将处理完毕后的待处理基底自炉管内取出。本发明的工艺方法可以实现基底表面材料层的生长或刻蚀反应，且所使用的反应炉体结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产，安全性高。

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摘要：本实用新型公开了一种用于金属表面材料合成的真空反应室，包括箱体、放置槽和进气管，箱体的上表面两侧对称安装有轨道，放置槽开设在箱体的内部上方一侧，侧边板通过内部转轴与挡板相互连接，底部滑槽通过底部滑块与连接块相互连接，进气管与箱体的左侧内部贯穿连接，箱体的内部两侧下方对称固定有加热块，箱体的前表面通过侧边转轴与前置板相互连接，冷却水管的一端通过进水管与水泵相互连接，连接杆的侧面通过弹簧与夹板相互连接，水泵和水箱之间通过曲形管相互连接。该用于金属表面材料合成的真空反应室，可以将金属材料在箱体内部转动，使得金属表面材料分布较为均匀，并且加工结束后，可以将金属材料推动至箱体上方进行快速冷却。

双室化学气相沉积炉炉口内外室密封/隔绝系统-201920478030.1
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摘要：本实用新型公开了一种双室化学气相沉积炉炉口内外室密封/隔绝系统，包括中空圆柱状的C/C罐，C/C罐的上端设有T形的炉盖，C/C罐的外壁从上至下分别依次同轴套接有水冷套和炉壳，水冷套恰好被卡在炉盖上端面与C/C罐的罐口之间，且水冷套与C/C罐之间填充有密封结构。本实用新型对内外室抽真空不受影响，能够确保内室中的污染气体不会逸入外室。

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摘要：一种真空化学气相沉积的加热管路，包括第一加热管和与第一加热管光滑连接的第二加热管，所述第二加热管一端设置有喇叭口，所述喇叭口密封连接真空腔室连接管的一端；所述第一加热管和第二加热管分别设置在蒸发室和裂解室中，所述真空腔室连接管另一端连接真空腔室。本实用新型中，在第二加热管一端设置有喇叭口，通过喇叭口包紧真空腔室连接管的一端，能够形成有效密封连接。

一种喷头清洗方法-201710295117.0
发明人：杨兰;赵阳;王国行;万林;胡加辉 -专利权人：华灿光电股份有限公司
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本发明公开了一种喷头清洗方法，属于金属有机化合物化学气相沉淀技术领域。所述喷头清洗方法包括：配置清洗溶液，所述清洗溶液为NaOH溶液与H₂O₂的混合溶液；将所述喷头浸泡在所述清洗溶液内进行超声清洗；采用清水对所述喷头进行超声冲洗；采用N₂或惰性气体吹扫所述喷头，然后再对所述喷头进行烘干。该清洗方法不会腐蚀喷头，而且能有效的清洗喷头，并可在短时间内恢复到量产的水平，有效降低了恢复量产的时间成本。

一种真空气相沉积设备的沉积反应室-201920504812.8
发明人：江成龙 -专利权人：玛奇纳米科技(苏州)有限公司
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本实用新型公开了一种真空气相沉积设备的沉积反应室，包括沉积室、机罩、驱动电机、温度检测器和滚轮，所述沉积室内部的底端固定有机罩，且机罩内部的中心位置处安装有驱动电机，所述机罩外侧的沉积室内壁上安装有环形支台，所述旋转支盘底端的中心位置处安装有转轴，所述旋转支盘上方的沉积室内侧壁上设置有圆置槽，所述沉积室顶端的内侧壁上安装有喷洒盘，喷洒盘的底部设置有等间距的电动喷头，所述电动喷头外侧的喷洒盘底端焊接有涡旋导流罩，所述沉积室一侧的外壁上安装有控制面板。本实用新型不仅实现了沉积反应室沉积过程中的集聚功能，实现了沉积反应室喷洒时的涡旋诱导功能，而且改善了沉积反应室的沉积环境。

一种发热均匀的高温化学气相沉积设备-201920281613.5
发明人：陈宇;严丽红 -专利权人：张家港迪源电子科技有限公司
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本实用新型公开了一种发热均匀的高温化学气相沉积设备，解决了现有高温化学气相沉积设备采用垂直放置的发热丝易造成发热桶内部发热不均匀，从而使内部反应条件不足难以达到更好的效果的问题，其包括桶体，所述桶体内部安装有保温层，保温层内侧位于桶体内部位置处安装有发热桶，保温层内部贯穿发热桶内部安装有发热组件，本实用新型，结构紧凑，便于优化现有高温化学气相沉积设备，使设备使用缠绕的发热线圈可以对发热桶内部更加均匀的散发热量，使用风机配合使热量在发热桶内部混合更加均匀，便于反应的高效进行，同时设置转动组件使热量更加快速且充分的散发至反应桶内，并有效隔离热量向外部流失。

一种用于长柄刀具的纳米涂层喷涂装置-201920363073.5
发明人：高梨明 -专利权人：无锡市中迈德涂层科技有限公司
申请日： 2019-03-21 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： C23C16/44
摘要：本实用新型公开了一种用于长柄刀具的纳米涂层喷涂装置：包括有反应箱体，所述反应箱体内顶部通过伸缩装置设置集气腔；所述集气腔的下表面设置有反应套筒结构，所述反应套筒结构与集气腔内部连通设置，所述反应套筒结构的下方敞口设置；所述集气腔的正下方设置有刀具支撑台，所述刀具支撑台上圆周设置有若干刀具固定孔，所述刀具固定孔与反应套筒结构的敞口在竖直方向一一正向对应设置；通过伸缩装置下降使反应套筒结构包覆设置刀具支撑台上的刀具；本实用新型通过反应套筒结构一一对应待镀刀具套设在内，从而对待镀刀具进行定向喷涂，能够有效减少反应气体的浪费；同时也能够较好的保证待镀刀具涂层厚度的均一性。

专利分类

C 化学；冶金

C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

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[实用新型]一种高温化学气相沉积加热系统有效

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