专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种清洁粉末的过滤装置及其清洁工艺-CN202310601122.5在审
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-10-27 - B01D46/24
  • 本发明提供了一种清洁粉末的过滤装置及其清洁工艺,该过滤装置包括外主体、滤芯体以及刮动机构;外主体对接设有吹扫气路和排空气路,滤芯体安装在外主体中,并沿滤芯体的内部直接输入镀膜气体及其所掺杂的粉末;滤芯体与外主体之间形成输气通道,排空气路配置成将输气通道内的气体抽离排出至外部,吹扫气路配置成可输入清洁气体以对滤芯体进行吹粉操作;镀膜气体经由滤芯体传输至输气通道内,且粉末对应阻隔并附着在滤芯体的内壁上;刮动机构的刮刀件可活动地容置在滤芯体的内部,用于在驱动件及联动件的配合下对应刮除内壁上的粉末。从而,协作实现对滤芯体内壁所附着的粉末进行更为深度的清洁,对过滤装置内所吸附粉末的高效清洁。
  • 一种清洁粉末过滤装置及其工艺
  • [发明专利]一种包覆共嵌式薄膜的正极材料、制备方法及锂离子电池-CN202111439817.5有效
  • 陈斌;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2021-11-30 - 2023-09-05 - H01M4/62
  • 本发明提供了一种包覆共嵌式薄膜的正极材料、制备方法及锂离子电池,通过原子层沉积法在正极材料表面沉积共嵌式薄膜,从而得到包覆共嵌式薄膜的正极材料。该共嵌式薄膜包括磷的无定型氧化物层和钛的无定型氧化物层。采用原子层沉积法能实现元素含量和比例的精准调控且成本低,包覆周期短,得到的具有特定元素比例和含量的共嵌式薄膜中的PO键可防止因材料脱氧而导致的材料结构崩塌,且磷的无定型氧化物层还能与正极材料的残锂形成快离子导体磷酸锂,从而降低界面阻抗。钛的无定型氧化物层具有阻隔电解液侵蚀的作用。因此,包覆共嵌式薄膜的正极材料及由其组装而成的锂离子电池具有较高的容量和循环性能。
  • 一种包覆共嵌式薄膜正极材料制备方法锂离子电池
  • [实用新型]一种新型粉末化学气相镀膜装置-CN202320917988.2有效
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-09-05 - C23C16/44
  • 本实用新型提供一种新型粉末化学气相镀膜装置,该装置包括反应器和搅拌器;所述反应器设有内部反应腔以及输送粉末颗粒的进料管路和出料管路;所述搅拌器包括动力件以及与动力件相连接的搅拌组件,所述搅拌组件用于搅动反应腔内的粉料主体;所述反应器至少外接连通反应源管路、吹粉管路以及抽气管路;所述反应源管路适于输入镀膜气体至反应器内,对应覆膜至搅拌中的粉末颗粒的外表面;所述抽气管路用于将反应腔的气体抽离至外界;所述吹粉管路输入气流至反应腔内,适于将搅拌组件以及反应腔内壁所附着的粉末颗粒吹落回粉料主体中。从而,具备有高产能、可规模化生产等显著特性,结构简单,加工难度低,可实现粉末镀膜的规模化生产。
  • 一种新型粉末化学镀膜装置
  • [实用新型]一种防粘型粉末气相镀膜装置-CN202320918196.7有效
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-09-05 - C23C16/455
  • 本实用新型提供一种防粘型粉末气相镀膜装置,该装置包括外腔体、内腔体、旋转轴以及样品桶;样品桶安装在旋转轴上,该装置的第一管路外接设有反应源气路和第一吹粉气路,反应源气路适于输入镀膜气体至处于转动状态的样品桶内,对应覆膜至桶内粉末颗粒的外表面;第二管路外接设有抽气气路和第二吹粉气路,抽气气路用于将第二密封空间的镀膜气体抽离至外界,并由第一吹粉气路和第二吹粉气路沿各自管路分别输入气流至处于转动状态的样品桶内,用于将沾黏在样品桶内壁上的粉末颗粒快速吹落。从而,样品桶的旋转使粉末颗粒在镀膜制程中具有良好的分散效果,同时多管路的不同方向的高流速的气流吹扫,达到粉末颗粒镀膜制程中防沾的效果。
  • 一种防粘型粉末镀膜装置
  • [实用新型]一种线圈内置的等离子体发生装置-CN202320254366.6有效
  • 明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-09-05 - H05H1/24
  • 本实用新型提供了一种线圈内置的等离子体发生装置,涉及等离子体发生装置技术领域,包括反应室、线圈以及用以与所述线圈连接的电源,其中,所述线圈置于所述反应室内,其外周套置有陶瓷保护罩,所述反应室的侧壁沿长度方向阵列设置有多个进气口,各所述进气口均与气体分流器连通,并通过所述气体分流器调节进气比例;所述线圈环绕所述进气口布设,以使源气体均匀分布在线圈周围;所述电源位于所述反应室外侧,通过导线与所述线圈连接;所述反应室在所述进气口相对侧设有匀流板,所述匀流板上均匀设置有多个出口。从而解决现有等离子体发生装置无法调节源气体分布,导致等离子体分布不均,影响后续加工效果的问题。
  • 一种线圈内置等离子体发生装置
  • [实用新型]一种可多级调节源气体的等离子体发生装置-CN202320254489.X有效
  • 明自强;赵茂生;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-09-01 - H05H1/24
  • 本实用新型提供了一种可多级调节源气体的等离子体发生装置,涉及等离子体发生装置技术领域,包括反应室、线圈以及与线圈相电连接的电源,其中,线圈置于反应室内,反应室的侧壁上设有第一级进气组和第二级进气组,第一级进气组包括设于线圈外周的一号进气口和二号进气口,第二级进气组包括设于线圈内周的三号进气口、四号进气口和五号进气口,第一级进气组与第一级气体分流器连接,第二级进气组与第二级气体分流器连接,且第二级气体分流器的进气端与第一级气体分流器的其中一个出气口连通,通过调节第一级气体分流器和第二级气体分流器以使线圈周侧的源气体流速均匀,从而解决现有技术中源气体流速不均,且容易从出口喷出的问题。
  • 一种多级调节气体等离子体发生装置
  • [实用新型]一种具有拉法尔效应的吹粉装置-CN202320918229.8有效
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-09-01 - C23C16/455
  • 本实用新型提供了一种具有拉法尔效应的吹粉装置,包括进气机构、吹粉机构以及动力机构;所述进气机构包括主体件以及安装件,所述安装件适于将进气机构限定配置在外部反应腔中;所述吹粉机构包括通气管以及与分气件,所述分气件配置为可输出拉法尔效应的快速气流至冲击腔室所附着的粉末;所述动力机构设有驱动件;所述通气管开设有与进气通路相连通的气口,所述主体件的内部设有储气仓,所述通气管穿设于储气仓且气口与储气仓相直面连通,所述驱动件适于提供扭矩至通气管,以沿储气仓输入不同维度的冲击气流至通气管内。从而,产生多维度无死角的冲击气流以供给分气件进一步操作使用,以达到提升进气效率和吹粉防粘的目的。
  • 一种具有拉法尔效应装置
  • [发明专利]一种搅拌装置和镀膜系统-CN202310601391.1在审
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-08-22 - B01F27/072
  • 本发明提供了一种搅拌装置和镀膜系统,该搅拌装置包括转轴件以及配置在转轴件上的搅拌件;所述转轴件至少开设有用于传输镀膜气体的第一气路和用于传输吹粉气体的第二气路;沿所述转轴件设置有多个所述搅拌件,各搅拌件可择定连通于其中之一的气路,用于在转轴件处于旋转的工作状态后对应沿所配属的气路输出气体至搅拌件的外界使用。从而,直接通过搅拌装置引入镀膜工艺所需的气体,实现对内部粉料的工艺制程,精简了镀膜系统的结构配置,使得搅拌装置的功能更为丰富多样。且输入惰性气体至第二气路进行清洁吹扫,避免杂质物污染粉料,同时也不会对装置造成剧烈的机械外力破坏。
  • 一种搅拌装置镀膜系统
  • [发明专利]一种可自清洁的过滤装置及其自清洁工艺-CN202310601411.5在审
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-08-11 - B01D46/24
  • 本发明提供了一种可自清洁的过滤装置及其自清洁工艺,该过滤装置包括外壳件、过滤件和刮动件;所述外壳件具有上法兰、下法兰和内部腔室,所述下法兰设有连通至内部腔室的进气口,所述上法兰外接一排气法兰,所述排气法兰设有连通至内部腔室的排气通道;所述过滤件安装在外壳件内,所述过滤件接合在内部腔室与排气通道之间,用于阻隔沿进气口的输气路径所输入镀膜气体中掺杂的粉末;所述刮动件可活动地配置在外壳件内,所述刮动件被配置成适于将附着在过滤件外壁以及腔室内壁的粉末进行刮除,从而实现对过滤装置内所吸附粉末的自清洁,且避免过滤的材料残留聚集在过滤件上而影响正常过滤使用,可大大减少材料的浪费,延长过滤使用寿命。
  • 一种清洁过滤装置及其工艺
  • [发明专利]一种防粘型粉末气相镀膜装置及其镀膜工艺-CN202310436214.2在审
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-07-14 - C23C16/44
  • 本发明提供一种防粘型粉末气相镀膜装置及其镀膜工艺,该装置包括外腔体、内腔体、旋转轴以及样品桶;样品桶安装在旋转轴上,该装置的第一管路外接设有反应源气路和第一吹粉气路,反应源气路适于输入镀膜气体至处于转动状态的样品桶内,对应覆膜至桶内粉末颗粒的外表面;第二管路外接设有抽气气路和第二吹粉气路,抽气气路用于将第二密封空间的镀膜气体抽离至外界,第一吹粉气路和第二吹粉气路沿各自管路分别输入气流至样品桶内,用于将沾黏在样品桶内壁上的粉末颗粒快速吹落。从而,样品桶的旋转使粉末颗粒在镀膜制程中具有良好的分散效果,同时多管路的不同方向的高流速的气流吹扫,达到粉末颗粒镀膜制程中防沾的效果。
  • 一种防粘型粉末镀膜装置及其工艺
  • [发明专利]一种新型粉末化学气相镀膜装置及其镀膜工艺-CN202310436379.X在审
  • 刘彦峰;赖海斌;陈斌;林秀芳;王韫宇 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-07-14 - C23C16/44
  • 本发明提供一种新型粉末化学气相镀膜装置及其镀膜工艺,该装置包括反应器和搅拌器;所述反应器设有内部反应腔以及输送粉末颗粒的进料管路和出料管路;所述搅拌器包括动力件以及与动力件相连接的搅拌组件,所述搅拌组件用于搅动反应腔内的粉料主体;所述反应器至少外接连通反应源管路、吹粉管路以及抽气管路;所述反应源管路适于输入镀膜气体至反应器内,对应覆膜至搅拌中的粉末颗粒的外表面;所述抽气管路用于将反应腔的气体抽离至外界;所述吹粉管路输入气流至反应腔内,适于将搅拌组件以及反应腔内壁所附着的粉末颗粒吹落回粉料主体中。从而,具备有高产能、可规模化生产等显著特性,结构简单,加工难度低,可实现粉末镀膜的规模化生产。
  • 一种新型粉末化学镀膜装置及其工艺
  • [实用新型]一种等离子体增强原子层沉积成膜装置-CN202320254507.4有效
  • 明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-06-13 - C23C16/455
  • 本实用新型提供了一种等离子体增强原子层沉积成膜装置,涉及等离子体发生装置技术领域,包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室,工艺腔室置于真空腔室内;反应腔室内置有线圈,该反应腔室的侧壁上设有多个进气口,且各进气口通过气体分流器控制进气比例;反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口,该敞口置于真空腔室内,并与工艺腔室连通;工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端,以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室;工艺腔室内置有支架,所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层,各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行,以确保各层基片与等离子体源均匀接触,从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
  • 一种等离子体增强原子沉积装置
  • [发明专利]一种用于批次式成膜的原子层沉积装置-CN202310135684.5在审
  • 明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-05-30 - C23C16/455
  • 本发明提供了一种用于批次式成膜的原子层沉积装置,涉及等离子体发生装置技术领域,包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室,工艺腔室置于真空腔室内;反应腔室内置有线圈,该反应腔室的侧壁上设有多个进气口,且各进气口通过气体分流器控制进气比例;反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口,该敞口置于真空腔室内,并与工艺腔室连通;工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端,以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室;工艺腔室内置有支架,所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层,各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行,以确保各层基片与等离子体源均匀接触,从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
  • 一种用于批次式成膜原子沉积装置
  • [外观设计]用于原子层沉积设备控制图形用户界面的显示屏幕面板-CN202230391320.X有效
  • 王韫宇;郭兴升 - 厦门韫茂科技有限公司
  • 2022-06-24 - 2022-11-15 - 14-04
  • 1.本外观设计产品的名称:用于原子层沉积设备控制图形用户界面的显示屏幕面板。2.本外观设计产品的用途:用于原子层沉积设备的人机交互及显示。3.本外观设计产品的设计要点:在于图形用户界面显示的内容。4.最能表明设计要点的图片或照片:主视图。5.非设计要点,省略后视图、左视图、右视图、俯视图和仰视图。6.图形用户界面的用途:提供多种模式的配方设定、存储、下载,用户可以根据界面编写多种复合生长材料的配方,在运行过程中对工艺数据进行实施修改,并对控制系统发出远程手动/自动控制命令。7.图形用户界面的人机交互方式:主视图为进入软件的首界面,主视图中“Cycle”上方为数字,表示软件运行的剩余生长圈数;点击主视图上方的“User Login”进入界面变化状态图 1;在界面变化状态图 1 的弹出框中输入用户名和密码,点击“log in”进入界面变化状态图 2;在界面变化状态图 2 选择一个“Recipe A”或者“Recipe B”点击进入,会进入界面变化状态图 3‑8 中的一个界面;点击界面变化状态图 3‑8 任一界面中“Cycle”上方的数字进入界面变化状态图 9;在界面变化状态图 9 中的弹出框中输入数值后,将返回上一个界面变化状态图的界面,点击所返回界面中的绿色按钮,开始生长工艺;点击界面变化状态图 2‑8 任一界面中下方的“Manual”,可进入界面变化状态图 10;点击界面变化状态图 2‑8 任一界面中下方的“Monitor”,可进入界面变化状态图 11;点击界面变化状态图 2‑8 任一界面中下方的“Setting”,可进入界面变化状态图 12;点击界面变化状态图 2‑8 任一界面中下方的“Alarm”,可进入界面变化状态图 13。8.本图形用户界面的外观设计应用于原子层沉积设备的操控屏幕或者电脑屏幕。
  • 用于原子沉积设备控制图形用户界面显示屏幕面板

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