[实用新型]一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备有效
| 申请号： | 201920079282.7 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN210001929U | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 陈剑雨;陈清彬;林建兴 | 申请（专利权）人： | 福建金石能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括腔室；用于提供气体的气柜；在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。本实用新型通过远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。 | ||
| 搜索关键词： | 远程等离子 腔室 发生器 气柜 本实用新型 清洁 进气口 等离子体 发生器连接 进气口连接 气体流量计 进出气口 流量设定 腔室内部 清洁过程 清洁效果 清洁效率 等离子 出气口 导入腔 匹配器 气动阀 通断 阻抗 联接 主机 电缆 室外 观察 | ||
【主权项】：
1.一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：包括/n腔室；/n用于提供气体的气柜；/n设在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；/n在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；/n与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
