[发明专利]抛光头清洗装置在审

专利信息
申请号: 201911404893.5 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111070098A 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 杨兆明;颜凯;中原司 申请(专利权)人: 浙江芯晖装备技术有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B08B1/04;B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 韩嫚嫚;赵燕力
地址: 314400 浙江省嘉兴市海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明为一种抛光头清洗装置,包括,基板,能固定连接于机体上;毛刷结构,包括基板上方能拆卸地设置的第一毛刷部和第二毛刷部,第一毛刷部和第二毛刷部能升降且能旋转,第一毛刷部用于刷洗抛光头的侧面,第二毛刷部用于刷洗抛光头的加工端面;旋转驱动结构,包括第一旋转部和第二旋转部;升降结构,连接于基板的底部且向下延伸设置,升降结构用于驱动毛刷结构和旋转驱动结构沿竖直方向升降;喷水结构,用于喷水冲洗抛光头;控制部,旋转驱动结构、升降结构和喷水结构均与控制部电连接。该装置可以有效清洗抛光头,防止在吸取硅片的时候抛光头上有异物对硅片造成划伤或者异物掉落在硅片上,保证硅片的性能。
搜索关键词: 抛光 清洗 装置
【主权项】:
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  • 本发明公开了一种具有金刚石柱状晶簇的CMP抛光垫修整器及其制备方法,其中,修整器包括基板及设置于基板上的第一金刚石层,所述第一金刚石层中具有多个山峰状柱状晶簇;各柱状晶簇具有至少9个柱状晶,各柱状晶的顶部构成切割尖点,各切割尖点距基板表面的垂直距离为15‑100μm,各柱状晶簇中最高切割尖点的高度差为5μm以下。第一金刚石层采用化学气相沉积方法分阶段沉积,第一金刚石层上还可设置第二金刚石层。本发明公开的CMP抛光垫修整器减少了金属污染的同时增强了CMP抛光垫修整器的使用寿命。
  • 一种多工位手术刀片磨削机的砂轮磨损状态确定方法-202310642460.3
  • 孙何文;段卫平;姜耀;许雨辰;唐中一;张家林;李全;史宇龙;张楚;彭甜;张志荣 - 淮阴工学院
  • 2023-06-01 - 2023-08-18 - B24B53/017
  • 本发明涉及磨刀机砂轮磨损预测技术领域,公开了一种多工位手术刀片磨削机的砂轮磨损状态确定方法,采集声发射源信号数据、磨削功率以及砂轮的磨粒高度,对其进行预处理并通过特征提取得到数据集;将声发射源信号和磨削功率作为随机森林模型的输入变量,砂轮的磨粒高度作为输出变量,建立RF检测模型;对CPA算法进行改进,利用ICPA优化RF检测模型的超参数获取最优RF检测模型;利用最优RF检测模型以当前采集的声发射源信号和磨削功率为输入对砂轮磨损状态检测,获取当前状态下的砂轮的磨粒高度,进一步得到当前砂轮的磨损状态。与现有技术相比,本发明给出了一种砂轮磨损状态确定方法,使得控制系统更简便的获取对砂轮的进给量,从而对砂轮进行补偿。
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