[发明专利]抛光设备及其抛光方法在审
| 申请号： | 201710439072.X | 申请日： | 2017-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN107225436A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 赵慧佳;路新春;沈攀 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B27/00;B24B29/00;B24B41/00;B24B47/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光设备及其抛光方法，所述抛光设备包括上抛光头和下抛光头，所述上抛光头和所述下抛光头相对布置，所述上抛光头和所述下抛光头相对可移动以抛光，所述上抛光头的下表面和所述下抛光头的上表面均具有用于放置待抛光物的待抛光物放置区；用于向待抛光物的待抛光面放入抛光液的抛光液输送装置，所述抛光液输送装置的出口连通所述上抛光头和所述下抛光头之间的空间。根据本发明的抛光设备，通过使上抛光头相对下抛光头移动可以同时抛光两个待抛光面，并且通过抛光液输送装置可以向上抛光头和下抛光头之间的空间输送抛光液，这样有利于提高抛光效率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光设备，其特征在于，包括：上抛光头和下抛光头，所述上抛光头和所述下抛光头相对布置，所述上抛光头和所述下抛光头相对可移动以抛光，所述上抛光头的下表面和所述下抛光头的上表面均具有用于放置待抛光物的待抛光物放置区；用于向待抛光物的待抛光面放入抛光液的抛光液输送装置，所述抛光液输送装置的出口连通所述上抛光头和所述下抛光头之间的空间。
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