[发明专利]半导体处理腔室及其垫圈有效

专利信息
申请号: 201911114409.5 申请日: 2019-11-14
公开(公告)号: CN111326392B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 徐官基;金志勋;徐康元 申请(专利权)人: 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 杨德彬
地址: 266000 山东省青岛市黄岛区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本公开的一个方面提供了一种半导体处理腔室,其包括:盖体,具有顶表面和与顶表面相对的底表面;主体,具有可机械地附接到盖的底表面的顶表面;和布置在所述盖体和所述主体之间的垫圈;其中,所述垫圈具有密封部和从所述密封部突出的至少一个把柄部。
搜索关键词: 半导体 处理 及其 垫圈
【主权项】:
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