[发明专利]半导体处理腔室及其垫圈有效
申请号: | 201911114409.5 | 申请日: | 2019-11-14 |
公开(公告)号: | CN111326392B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 徐官基;金志勋;徐康元 | 申请(专利权)人: | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 杨德彬 |
地址: | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开的一个方面提供了一种半导体处理腔室,其包括:盖体,具有顶表面和与顶表面相对的底表面;主体,具有可机械地附接到盖的底表面的顶表面;和布置在所述盖体和所述主体之间的垫圈;其中,所述垫圈具有密封部和从所述密封部突出的至少一个把柄部。 | ||
搜索关键词: | 半导体 处理 及其 垫圈 | ||
【主权项】:
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