[发明专利]一种真空镀膜装置内部件的再生方法及装置在审
| 申请号： | 201910362335.0 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110117779A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 李建;李岩;古大龙;马亮 | 申请（专利权）人： | 信利（仁寿）高端显示科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44;C23G5/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 廖苑滨 |
| 地址： | 620500 四川省眉山*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种真空镀膜装置内部件的再生方法，所述真空镀膜装置内部件在镀膜过程中会沉积镀膜层，所述再生方法包括以下步骤：在所述真空镀膜装置内部件会沉积镀膜层的表面制作可熔膜层；当所述真空镀膜装置内部件上沉积的镀膜层厚度超过厚度阈值时，烘烤所述真空镀膜装置内部件使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落。本发明提供的真空镀膜装置内部件的再生方法在实现真空镀膜装置内部件的再生过程中，不需要进行酸洗，从而能够有效避免酸洗带来的环保问题；而是通过烘烤使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落来实现再生的，再生工艺简单，能有效节省运输费用，提高再生速度，减少购置备用真空镀膜装置内部件的费用，有效实现了降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜装置 内部件 镀膜层 沉积 再生 熔膜 烘烤 熔解 酸洗 再生方法及装置 镀膜过程 环保问题 有效实现 运输费用 再生工艺 再生过程 阈值时 备用 制作 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜装置内部件的再生方法，所述真空镀膜装置内部件在镀膜过程中会沉积镀膜层，其特征在于，所述再生方法包括以下步骤：在所述真空镀膜装置内部件会沉积镀膜层的表面制作可熔膜层；当所述真空镀膜装置内部件上沉积的镀膜层厚度超过厚度阈值时，烘烤所述真空镀膜装置内部件使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落。
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