[发明专利]一种真空镀膜装置内部件的再生方法及装置

说明书

本发明提供了一种真空镀膜装置内部件的再生方法，所述真空镀膜装置内部件在镀膜过程中会沉积镀膜层，所述再生方法包括以下步骤：在所述真空镀膜装置内部件会沉积镀膜层的表面制作可熔膜层；当所述真空镀膜装置内部件上沉积的镀膜层厚度超过厚度阈值时，烘烤所述真空镀膜装置内部件使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落。本发明提供的真空镀膜装置内部件的再生方法在实现真空镀膜装置内部件的再生过程中，不需要进行酸洗，从而能够有效避免酸洗带来的环保问题；而是通过烘烤使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落来实现再生的，再生工艺简单，能有效节省运输费用，提高再生速度，减少购置备用真空镀膜装置内部件的费用，有效实现了降低生产成本。

技术领域

本发明涉及了真空镀膜技术领域，特别是涉及了一种真空镀膜装置内部件的再生方法及装置。

背景技术

真空镀膜装置在液晶显示器、触摸屏、AMOLED等产品的制作中应用广泛，其中，真空真空镀膜装置内部件在镀膜过程中会沉积镀膜层，例如真空挡板。当沉积的镀膜层厚度大于厚度阈值时就需要进行更换或者再生，否则会出现沉积的镀膜层脱落损伤产品。现有的真空镀膜装置内部件的再生方法一般是将真空镀膜装置内部件拆下后运输到外协厂进行酸洗、喷砂、清洗等工序之后，再包装运返回产品制造厂使用，这样会存在以下技术问题：1、酸洗存在严重的环保问题，酸洗用到的硫酸、盐酸，排放后严重污染环境，目前很多城市要求硫酸、盐酸零排放；2、周期太长，一般需要10天以上，使得再生过程中需要使用备用部件，购买费用大；3、需要在外协厂进行再生，运输费用大，年费用可达数十万元)。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种真空镀膜装置内部件的再生方法及装置，它可以有效实现真空镀膜装置内部件的再生利用，而且避免酸洗带来的环保问题，降低生产成本。

为了解决以上技术问题，本发明提供了一种真空镀膜装置内部件的再生方法，所述真空镀膜装置内部件在镀膜过程中会沉积镀膜层，所述再生方法包括以下步骤：

在所述真空镀膜装置内部件会沉积镀膜层的表面制作可熔膜层；

当所述真空镀膜装置内部件上沉积的镀膜层厚度超过厚度阈值时，烘烤所述真空镀膜装置内部件使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落。

作为本发明的一种优选方案，所述可熔膜层的材料为熔点范围为130℃-350℃的金属。

作为本发明的一种优选方案，所述可熔膜层的材料为铟或铟合金。

作为本发明的一种优选方案，所述可熔膜层的材料为铟，且所述可熔膜层的厚度为 0.1-10mm。

作为本发明的一种优选方案，所述烘烤具体为预热3-15分钟后，烘烤5-60分钟。

作为本发明的一种优选方案，所述烘烤温度大于156.63℃。

作为本发明的一种优选方案，还包括对熔解的可熔膜层进行回收。

作为本发明的一种优选方案，所述对熔解的可熔膜层进行回收包括：使得熔解的可熔膜层流经滤网进入回收舱；冷却回收舱中的可熔膜层。

作为本发明的一种优选方案，所述真空镀膜装置内部件为真空挡板。

进一步地，提供一种真空镀膜装置内部件的再生装置，包括用于烘烤真空镀膜装置内部件的烤箱和设于所述烤箱下的回收舱；所述回收舱的入口设有滤网。

本发明具有如下技术效果：本发明提供的真空镀膜装置内部件的再生方法在实现真空镀膜装置内部件的再生过程中，不需要进行酸洗，从而能够有效避免酸洗带来的环保问题；而是通过烘烤使得可熔膜层熔解带动沉积镀膜层脱落来实现再生的，再生工艺简单，而烘烤工序不需要通过外协厂完成，因此也能有效节省运输费用，提高再生速度，减少购置备用真空镀膜装置内部件的费用，有效实现了降低生产成本。

附图说明