[发明专利]一种完美吸收体涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201910269793.X | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN109972090B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 高俊华;臧睿;曹鸿涛;胡海搏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 刘诚午 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种完美吸收体涂层，自衬底向外依次包括金属反射层、电介质层、金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、金属纳米颗粒‑陶瓷复合层以及电介质减反射层；所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层中，金属纳米线阵列垂直分布在陶瓷相中，金属纳米线的直径不小于3.5nm，高度与所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的厚度相同，相邻金属纳米线的间距为1～15nm，金属纳米线占所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的体积百分数为20％～60％；所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层中，金属纳米颗粒弥散均匀分布于陶瓷相中，金属纳米颗粒的直径4～15nm，占所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层的体积百分数为5％～45％。还公开了一种完美吸收体涂层的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 完美 吸收体 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种完美吸收体涂层，其特征在于，自衬底向外依次包括金属反射层、电介质层、金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、金属纳米颗粒‑陶瓷复合层以及电介质减反射层；所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层中，金属纳米线阵列垂直分布在陶瓷相中，金属纳米线的直径不小于3.5nm，高度与所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的厚度相同，相邻金属纳米线的间距为1～15nm，金属纳米线占所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的体积百分数为20％～60％；所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层中，金属纳米颗粒弥散均匀分布于陶瓷相中，金属纳米颗粒的直径4～15nm，占所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层的体积百分数为5％～45％。
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- 本发明公开一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构及镀膜设备和镀膜方法，蒸发源机构包括坩埚、陶瓷组件、感应线圈、冷却铜块和金属丝送丝组件，坩埚设有一端开口的熔池，开口处设有冷却铜块，冷却铜块设有通孔，坩埚外周设有陶瓷组件，陶瓷组件外周设有感应线圈，感应线圈和冷却铜块连接并组成加热组件；镀膜设备中设有上述蒸发源机构，其镀膜方法是基材进行至少一次“第一面磁控溅射镀膜‑第一面蒸发镀膜‑第二面磁控溅射镀膜‑第二面蒸发镀膜”的双面交替镀膜和冷却；第一面磁控溅射镀膜和第一面蒸发镀膜在第一镀膜辊外侧完成，第二面磁控溅射镀膜和第二面蒸发镀膜在第二镀膜辊外侧完成。本发明可避免超薄薄膜因表面热量过高而产生褶皱变形等现象。
- 一种大面积平板沉积镍钛镍薄膜装置-202223039856.9
- 邹杨;孙蕾;邹松东 - 洛阳奥尔材料科技有限公司
- 2022-11-16 - 2023-05-23 - C23C14/14
- 本实用新型公开了一种大面积平板沉积镍钛镍薄膜装置，属于真空镀膜技术领域，包括真空镀膜室与进出样室，所述进出样室安装至真空镀膜室的左侧，所述进出样室的内部分别安装有机械手与基片主体，所述真空镀膜室的内部安装有基片架，所述真空镀膜室上安装有考夫曼离子源，所述真空镀膜室上分别安装有与其连通的钛磁控靶、阳极层离子源与镍磁控靶。该实用新型，通过机械手将进出样室中的基片主体传递至真空镀膜室，在真空镀膜室内通过磁控靶和离子源向匀速运动的基片主体清洗、溅射沉积镍钛镍薄膜，从而使大面积平板基片主体沉积上高品质的镍钛镍薄膜。
- 一种医用类金刚石薄膜及其制备方法-202310176954.7
- 王建刚;王磊;罗伟;范宇星 - 中科微晶医疗科技（苏州）有限公司
- 2023-02-28 - 2023-05-16 - C23C14/14
- 本发明属于薄膜材料技术领域，具体公开一种医用类金刚石薄膜及其制备方法。所述医用类金刚石薄膜包括：沉积于基体之上的金属打底层；沉积于所述打底层之上的周期性梯度层；沉积于所述周期性梯度层之上的钛掺杂类金刚石层；其中，所述周期性梯度层为TiCrN层和TiSiCN层交替沉积形成的多周期膜层。本发明通过采用金属打底层/周期性梯度层/钛掺杂类金刚石层的多层膜结构，实现成分和结构的缓慢过渡，大大降低膜层的内应力，有效改善膜层整体的结合强度、硬度、耐磨性、韧性和疏水性等综合性能。
- 一种真空式被银装置-202320266146.5
- 李贤兵 - 成都友臻科技有限公司
- 2023-02-21 - 2023-05-16 - C23C14/14
- 本实用新型涉及被银设备技术领域，尤其为一种真空式被银装置，包括工作台，所述工作台上端左部和上端右部均固定连接有固定块，所述工作台上端中部设置有密封盖，所述工作台内下壁左部和内下壁右部均固定安装有电机，两个所述电机输出端均固定连接有一号螺杆，两个所述一号螺杆外表面均滑动连接有滑筒，两个所述滑筒相对面均固定连接有L型连接块，两个所述L型连接块下端共同固定连接有放置机构，所述工作台内下壁中部固定连接有固定座，所述固定座上端固定连接有被银箱，所述工作台前端上部设置有控制面板。本实用新型所述的一种真空式被银装置，通过设置的放置机构，对基板的夹持固定效果好，可以提高基板被银的质量。
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