[发明专利]一种半导体桥芯片及其封装结构在审

专利信息
申请号: 201810310798.8 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108426489A 公开(公告)日: 2018-08-21
发明(设计)人: 王宽厚;赵伟红;董振斌;陈坚 申请(专利权)人: 陕西航晶微电子有限公司
主分类号: F42B3/13 分类号: F42B3/13;F42B33/02;H01L23/49
代理公司: 西安毅联专利代理有限公司 61225 代理人: 杨燕珠
地址: 710000 陕西省西安市航天基地*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种半导体桥芯片及其封装结构,其中半导体桥芯片,其特征在于,包括:位于半导体桥芯片的底层的单晶硅层;在所述单晶硅的上表面氧化形成二氧化硅层;在所述二氧化硅层的部分区域设置有多晶硅层;所述多晶硅层上覆盖有金属电极;还包括贯穿所述多晶硅层、二氧化硅层以及单晶硅层的通孔,所述通孔内设置有金属导电区,所述金属导电区将金属电极获得的电信号传递至整个通孔。该芯片能够与电极塞垂直连接,取消焊线,使药剂与半导体桥紧密接触,提高半导体桥火工品的可靠性,并且可采用半导体工艺大批量生产。
搜索关键词: 半导体桥 芯片 二氧化硅层 多晶硅层 通孔 金属导电区 单晶硅层 封装结构 金属电极 半导体工艺 电信号传递 单晶硅 垂直连接 区域设置 电极塞 火工品 上表面 焊线 贯穿 覆盖 生产
【主权项】:
1.一种半导体桥芯片,其特征在于,包括:位于半导体桥芯片的底层的单晶硅层;在所述单晶硅的上表面氧化形成二氧化硅层;在所述二氧化硅层的部分区域设置有多晶硅层;所述多晶硅层上覆盖有金属电极;还包括贯穿所述多晶硅层、二氧化硅层以及单晶硅层的通孔,所述通孔内设置有金属导电区,所述金属导电区将金属电极获得的电信号传递至整个通孔。
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