[发明专利]半导体装置及电力变换装置有效
申请号: | 201810203934.3 | 申请日: | 2018-03-13 |
公开(公告)号: | CN108574015B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 田中香次 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06;H02M1/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的目的是提供可不依赖于寿命控制而对V |
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搜索关键词: | 半导体 装置 电力 变换 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具有:n型漂移层;第一p型阳极层,其设置于所述n型漂移层的表面;至少1个第二p型阳极层,其选择性地设置于所述第一p型阳极层的表面,包含施主杂质以及受主杂质,且与所述第一p型阳极层相比受主杂质浓度低;n型缓冲层,其设置于所述n型漂移层的背面;以及n型阴极层以及p型阴极层,它们以在俯视观察时彼此相邻的方式设置于所述n型缓冲层的表面,所述n型阴极层的厚度大于或者等于所述p型阴极层的厚度,所述第一p型阳极层的厚度大于或等于所述第二p型阳极层的厚度,所述n型阴极层的施主杂质浓度大于或等于所述p型阴极层的受主杂质浓度,所述第一p型阳极层的受主杂质浓度大于或等于所述第二p型阳极层的施主杂质浓度,所述第二p型阳极层的受主杂质浓度大于或等于所述第二p型阳极层的施主杂质浓度,所述第二p型阳极层的施主杂质浓度大于或等于所述n型漂移层的施主杂质浓度。
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