[发明专利]三维半导体装置在审

专利信息
申请号: 201711214301.4 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN108538844A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 金英宇;任峻成;尹壮根;黄盛珉 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11526 分类号: H01L27/11526;H01L27/11551;H01L27/11573;H01L27/11578
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种三维(3D)半导体装置,所述3D半导体装置包括具有单元阵列区和外围电路区的基底。单元阵列结构位于单元阵列区中,并包括3D存储器单元阵列。外围逻辑结构位于外围电路区中并包括外围电路晶体管。单元绝缘层使单元阵列结构绝缘。外围绝缘层与外围逻辑结构和单元阵列区绝缘并且具有多孔层。
搜索关键词: 单元阵列区 绝缘层 单元阵列结构 半导体装置 外围电路区 逻辑结构 外围 绝缘 存储器单元阵列 三维半导体装置 外围电路晶体管 多孔层 基底 三维
【主权项】:
1.一种三维半导体装置,所述三维半导体装置包括:基底,具有单元阵列区和外围电路区;单元阵列结构,位于单元阵列区中并包括三维存储器单元阵列;外围逻辑结构,位于外围电路区中并包括外围电路晶体管;单元绝缘层,使单元阵列结构绝缘;以及外围绝缘层,使外围逻辑结构绝缘,并具有多孔层。
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