[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710844807.7 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN109524395B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 邱建维;林鑫成;胡钰豪 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/72;H01L21/76;H01L29/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;贾磊
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明实施例提供了半导体装置及其制造方法,该半导体装置包含半导体基底,具有第一导电类型,其中半导体基底包含第一区和第二区,埋置层设置于半导体基底的第一区内且具有第一导电类型,其中埋置层的掺质浓度高于半导体基底的掺质浓度,外延层设置于半导体基底上,第一元件设置于半导体基底的第一区上,其中第一元件包含双载子‑互补金属氧化物半导体‑双扩散金属氧化物半导体晶体管,以及第二元件设置于半导体基底的第二区上,其中第二元件包含超高压晶体管。本发明可有效防止设置于半导体基底的第一区的BCD晶体管产生闩锁效应,进而避免BCD晶体管因短路而烧毁。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
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