[发明专利]等离子体处理方法

摘要

本发明提供一种等离子体处理方法，执行多次各自包括第一阶段和第二阶段的循环，第一阶段生成含有第一气体的第一处理气体的等离子体，第二阶段生成含有第一气体和第二气体的第二处理气体的等离子体，依照方案自动决定进行第二阶段的期间的开始时刻与来自气体供给系统的第二气体的输出的开始时刻之间的时间差。使用函数或者表确定与第二阶段的第一气体的流量和第二气体的流量对应的延迟时间。来自气体供给系统的第二气体的输出在比第二阶段的开始时刻仅靠前基于延迟时间设定的时间差的量的时刻开始。

主权项

1.一种在等离子体处理装置中执行的等离子体处理方法，其特征在于：所述等离子体处理装置包括：处理容器；对所述处理容器内供给气体的气体供给系统；第一电极和第二电极，该第一电极和第二电极以所述处理容器内的空间介于该第一电极和第二电极之间的方式设置；第一高频电源，其输出用于供给到所述第一电极和所述第二电极之中的一个电极的等离子体生成用的第一高频；第二高频电源，其输出用于供给到所述第二电极的离子引入用的第二高频；和控制部，其控制所述气体供给系统、所述第一高频电源和所述第二高频电源，在该等离子体处理方法中，执行各自包括第一阶段和第二阶段的多次循环，其中，在所述第一阶段，在所述处理容器内生成包含第一气体的第一处理气体的等离子体，所述第二阶段接着所述第一阶段，在所述第二阶段中，在所述处理容器内生成包含所述第一气体和添加在该第一气体中的第二气体的第二处理气体的等离子体，在进行所述第一阶段的第一期间和接着该第一期间进行所述第二阶段的第二期间，将所述第一气体供给到所述处理容器内，将所述第一高频供给到所述一个电极，在所述第二期间对所述第二电极供给所述第二高频，所述第一期间的所述第二高频的功率被设定成比所述第二期间的所述第二高频的功率低的功率，该等离子体处理方法包括：根据所述控制部的控制，在比所述第二期间的开始时刻靠前第一时间差的量的输出开始时刻，开始来自所述气体供给系统的所述第二气体的输出的步骤；根据所述控制部的控制，在所述第二期间的所述开始时刻，开始对所述第二电极供给所述第二高频的步骤；根据所述控制部的控制，在所述第二期间中且比该第二期间的结束时刻靠前第二时间差的量的输出停止时刻，停止来自所述气体供给系统的所述第二气体的输出的步骤；和根据所述控制部的控制，在所述第二期间的所述结束时刻，使所述第二高频的功率降低的步骤，所述控制部，使用将从所述气体供给系统开始所述第二气体的输出的时刻起至所述第二气体被供给到所述处理容器内的时刻为止的延迟时间与所述第一气体的流量和所述第二气体的流量相关联的函数或者表，确定与方案中指定的所述第二阶段的所述第一气体的流量和所述第二气体的流量相关联的第一延迟时间，将该第一延迟时间初始地设定为所述第一时间差，所述控制部，使用将从所述气体供给系统停止所述第二气体的输出的时刻起至所述第二气体向所述处理容器内的供给结束的时刻为止的延迟时间与所述第一气体的流量相关联的函数或者表，确定与所述方案中指定的所述第二阶段的所述第一气体的流量相关联的第二延迟时间，将该第二延迟时间初始地设定为所述第二时间差。