[发明专利]场效应晶体管、显示元件、图像显示装置以及系统有效
申请号: | 201611122623.1 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN106876475B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 安部由希子;植田尚之;松本真二;早乙女辽一;中村有希;曾根雄司;新江定宪;草柳岭秀 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/51 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 安之斐;黄玫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
一种场效应晶体管包括:栅电极,其被配置为施加栅极电压;源电极和漏电极,其被配置为将电流送出;有源层,其被置于邻近所述源电极和所述漏电极并由氧化物半导体形成;以及栅极绝缘层,其被置于所述栅电极与所述有源层之间。其中,所述栅极绝缘层包含顺电性非晶氧化物,其包含作为碱土金属的A族元素以及作为从由Ga、Sc、Y,以及镧系元素组成的所述族中选择的至少一个的B族元素,以及其中,所述有源层具有4.0×10 |
||
搜索关键词: | 场效应 晶体管 显示 元件 图像 显示装置 以及 系统 | ||
【主权项】:
一种场效应晶体管,包括:栅电极,配置来施加栅极电压;源电极和漏电极,被配置为将电流送出;有源层,被置于邻近所述源电极和所述漏电极,并由氧化物半导体形成;以及栅极绝缘层,被置于所述栅电极与所述有源层之间,其中,所述栅极绝缘层包含顺电性非晶氧化物,所述顺电性非晶氧化物包含作为碱土金属的A族元素以及作为从由Ga、Sc、Y,以及镧系元素组成的族中选择的至少一个的B族元素,以及其中,所述有源层具有4.0×1017/cm3或更高的载流子密度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611122623.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类