[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及基板处理装置的维护方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及基板处理装置的维护方法。在对晶圆进行加热处理时分解由于晶圆的处理而产生的升华物，从而抑制升华物附着于排气路径的情况。另外，在利用来自光源部的光对晶圆W进行加热等处理时将附着到透光窗的升华物去除。在处理容器的内表面形成热催化剂层，对该热催化剂层进行了加热。因此，在自晶圆上的涂敷膜升华而引入到处理容器内的升华物到达了热催化剂层的附近时，利用热催化剂层的热活性化从而升华物被分解去除。另外，在将附着到透光窗的升华物去除时，将在表面形成有热催化剂层的清洁用基板输入处理容器内，在将热催化剂层靠近了透光窗后，加热清洁用基板，从而将附着到透光窗的表面的升华物去除。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：处理容器，在其内部设置有用于载置被处理基板的载置部；排气路径，其用于对所述处理容器内的气氛气体进行排气；热催化剂物质，其设置于所述处理容器的内表面以及所述排气路径中的至少一者，对其加热而使其热活性化，用来分解由于被处理基板的处理而从该被处理基板产生的生成物；热催化剂用的加热部，其用于对所述热催化剂物质进行加热。