专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高分子化合物的制造方法-CN201980062989.X有效
  • 鹿岛健;广井结希;森拓也 - 住友化学株式会社
  • 2019-09-04 - 2023-05-26 - C08G61/10
  • 本发明的目的在于提供低分子量成分的含量少的高分子化合物的制造方法。一种制造方法,其是对包含式(1)所示的结构单元的高分子化合物A进行纯化而制造低分子量成分减少了的包含式(1)所示的结构单元的高分子化合物B的方法,上述纯化包括使用吸附剂对含有上述高分子化合物A和溶剂的混合物进行柱色谱处理的工序,上述柱中的吸附剂的填充量相对于100质量份的上述高分子化合物A为300质量份以上,上述吸附剂的介孔容积为0.3cm3/g~0.7cm3/g。[式中,Ar1和Ar2各自独立地表示2价的芳香族烃基、2价的杂环基等,在Ar2存在有多个的情况下,它们各自任选相同或不同。Ar3表示1价的芳香族烃基等。a表示0~2的整数。]
  • 高分子化合物制造方法
  • [发明专利]起偏镜的制造方法-CN201980021084.8有效
  • 三田聪司;猿桥友斗;森拓也 - 日东电工株式会社
  • 2019-03-22 - 2023-04-28 - G02B5/30
  • 本发明提供一种薄型起偏镜的制造方法,该薄型起偏镜可防止制造工序中的工序保护膜剥离及起偏镜卷曲、以及粘贴替换工序保护膜时的起偏镜断裂。本发明的起偏镜的制造方法包括:将工序保护膜以可剥离的方式暂时粘贴于包含聚乙烯醇类树脂层与基材的层叠体的该基材侧;以及将暂时粘贴有工序保护膜的层叠体染色,将聚乙烯醇类树脂层制成起偏镜。聚乙烯醇类树脂层的厚度为5μm以下,基材的厚度为40μm以下,层叠体的总厚度T1为45μm以下;工序保护膜的低速剥离力为0.12(N/25mm)以上;层叠体的总厚度T1与工序保护膜的厚度T2满足下述式(1)的关系:T1/T2≤1.0...(1)。
  • 起偏镜制造方法
  • [发明专利]连接体的制造方法及黏合剂膜-CN202080083968.9在审
  • 白川哲之;伊泽弘行;森拓也;菊地健太 - 昭和电工材料株式会社
  • 2020-12-03 - 2022-07-12 - C09J5/00
  • 本发明提供一种连接体的制造方法,其包括介由黏合剂膜将具有第2电极的第2电子部件电连接于具有第1电极的第1电子部件的工序,第1电子部件具有凹凸状表面,第1电极设置于凹凸状表面的凹部,第2电极为具有面积比第1电极的面积更大的大致平坦面的电极,黏合剂膜含有:第1导电粒子,为树枝状导电粒子;及第2导电粒子,为第1导电粒子以外的导电粒子,且为具有非导电性核体及设置于该核体上的导电层的导电粒子,第2导电粒子的平均粒径为凹部的深度以上,在上述工序中,在第1电子部件与第2电子部件之间配置黏合剂膜,以第2电极的大致平坦面电连接于第1电极的方式将第2电子部件压接于第1电子部件。
  • 连接制造方法黏合剂
  • [发明专利]显示装置、显示方法以及存储介质-CN202111498264.0在审
  • 城坂惠;富田浩;森拓也;内栫英树 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-12-09 - 2022-06-21 - H04N7/18
  • 本发明提供一种显示装置、显示方法以及存储介质,能够容易地掌握过去执行的基板处理的状态。显示装置是在显示画面中显示与对多个基板执行规定的基板处理的基板处理装置中的处理有关的信息的装置。显示装置具备显示控制部,所述显示控制部能够根据来自用户的指示,使显示画面中显示基于过去在基板处理装置内拍摄多个基板中的作为显示对象的基板所得到的第一摄像数据的图像,并且能够根据来自用户的指示,使显示画面中显示基于过去在基板处理装置内拍摄作为显示对象的基板所得到的第二摄像数据的图像。第一摄像数据与第二摄像数据是在不同的定时进行拍摄所得到的数据,或者第一摄像数据与第二摄像数据是拍摄不同的摄像范围所得到的数据。
  • 显示装置显示方法以及存储介质
  • [发明专利]起偏镜及偏振片-CN201880075423.6有效
  • 泽田浩明;森拓也;三田聪司;猿桥友斗 - 日东电工株式会社
  • 2018-11-20 - 2022-04-08 - G02B5/30
  • 本发明提供一种薄型且具有非常优异的耐热性的起偏镜。本发明的起偏镜由聚乙烯醇类树脂膜构成,该起偏镜的碘含量为3.5重量%以上,该起偏镜在105℃的环境中放置30小时后的单体透射率变化量ΔTsa的绝对值为5.0%以下。其中,单体透射率变化量ΔTsa由下式表示:ΔTsa(%)=Ts30-Ts0,Ts0为加热前的单体透射率,Ts30为在105℃的环境中放置30小时后的单体透射率。
  • 起偏镜偏振
  • [发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202110394034.3在审
  • 森拓也 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-04-13 - 2021-10-22 - H01L21/677
  • 本发明提供一种基片处理装置和基片处理方法。本发明的一方面的基片处理装置包括:对基片实施规定的处理的处理单元;输送单元,其具有保持基片的保持部,通过使保持着基片的保持部位移来对处理单元进行基片的送入送出;和基片检查单元,其在处理单元的外部,获取表示保持部所保持的基片的表面状态的信息。根据本发明,能够兼顾处理结果的可靠性提高和生产率。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]热处理装置-CN202011456717.9在审
  • 森拓也;黑岩庆造 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-12-11 - 2021-06-22 - H01L21/67
  • 本发明提供热处理装置,其无论基板的翘曲的大小如何,都能够在面内均匀地进行对该基板的热处理。热处理装置,其对基板进行热处理,该热处理装置具有:热处理板,在其上表面载置基板,对被载置的该基板进行加热或冷却;以及变形自如的导热构件,至少其外周面的热导率比所述热处理板的上表面附近的气氛的热导率高,且该导热构件设为覆盖该热处理板的上表面并介于该上表面和晶圆(W)之间,所述导热构件在向所述热处理板的上表面推压基板的力的作用下变形为与该基板的形状对应的形状。
  • 热处理装置
  • [发明专利]搬运台车-CN201810994883.0有效
  • 仓井贤一郎;森拓也 - 本田技研工业株式会社
  • 2018-08-29 - 2021-04-27 - B60P1/00
  • 本发明提供一种搬运台车。在自主行驶部(12)设置有包含多个滑块(52a、52b)的肘节机构(40)。在多个滑块(52a、52b)上分别设置有凸轮从动件(58a、58b)。另一方面,在工件装载部(14)上设置有被夹紧部(70)。以彼此分离的方式位移的凸轮从动件(58a、58b)进入到被夹紧部(70)的交叉部(72a、72b),据此,工件装载部(14)被自主行驶部(12)限制。根据本发明,能够容易进行自主行驶部与工件装载部的对位和连结,并且能够实现工件装载部的小型化。
  • 搬运台车

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