[发明专利]一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管在审
| 申请号： | 201610270783.4 | 申请日： | 2016-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN105762184A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 杜江锋;李振超 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L29/778 | 分类号： | H01L29/778;H01L29/06 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 张杨 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管，属于半导体器件领域，包括衬底上依次形成的成核层、GaN层和势垒层，以及势垒层上的源极、栅极和漏极，其中源极、漏极与势垒层形成欧姆接触，栅极与势垒层形成肖特基接触，其特征是，它还包括一层位于势垒层上、栅极和漏极之间的，并与栅极和漏极相连的半绝缘材料层。所述势垒层和半绝缘材料层之间还可有一层绝缘材料层。其中的半绝缘材料层，相当于一个电阻型场板，利用这一场板对其下面的势垒层中的电场分布产生的调制作用，降低栅漏之间电场的峰值，从而提高了栅漏之间击穿所需的电压，也即提高晶体管的击穿电压。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 绝缘 氮化 镓基高 电子 迁移率 晶体管 | ||
【主权项】：
一种具有半绝缘层的氮化镓基高电子迁移率晶体管，包括衬底(7)上依次形成的成核层(6)、GaN层(5)和势垒层(4)，以及势垒层(4)上的源极(1)、栅极(2)和漏极(3)，其中源极(1)、漏极(3)与势垒层(4)形成欧姆接触，栅极(2)与势垒层形成肖特基接触，其特征是，它还包括一层位于势垒层(4)上、栅极(2)和漏极(3)之间的，并与栅极(2)和漏极(3)相连的半绝缘材料层(8)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610270783.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
