[发明专利]真空室的具有气体引导机构的气体分配装置有效
| 申请号： | 201580029436.6 | 申请日： | 2015-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106414796B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | J·达根 | 申请（专利权）人： | 布勒阿尔策瑙股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/455;C23C16/54;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 德国阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空室(10)的具有气体引导机构的气体分配装置，其包括具有喷嘴(27,37)的至少一个气体引导通道(25,30)，气体能从所述喷嘴被分配至真空室(10)，并且所述气体分配装置还具有气体供给机构，借助于其能将气体供给至所述气体引导机构，其中所述至少一个气体引导通道(25,30)由构造为空心型材的一体式构件(20)形成。所述气体供给机构的至少一个气体供给通道(25a,30a,30e)也由所述构造为空心型材的一体式构件(20)形成。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 具有 气体 引导 机构 分配 装置 | ||
【主权项】：
一种真空室(10)的、具有气体引导机构的气体分配装置，其包括具有喷嘴(27,37)的至少一个气体引导通道(25,30)，气体能从所述喷嘴被分配至所述真空室(10)，所述气体分配装置还具有气体供给机构，借助于所述气体供给机构能向所述气体引导机构供给气体，其中所述至少一个气体引导通道(25,30)由构造为空心型材的一体式构件(20)形成，其特征在于，所述构造为空心型材的一体式构件(20)也形成所述气体供给机构的至少一个气体供给通道(25a,30a,...,30e)。
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