[发明专利]具有改进的硅钝化的半水性光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物有效
| 申请号： | 201510981707.X | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105717756B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | R·K·阿加瓦尔;M·R·布朗;吴爱萍;D·B·瑞内;李翊嘉;G·E·帕里斯 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物，其包含水、一种或多种碱性化合物、一种或多种腐蚀抑制剂和一种或多种抗氧化剂的一种或多种氧化产物，及制备所述组合物的方法和使用所述组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 钝化 水性 光致抗蚀剂 半导体 制造 残余物 剥离 清洁 组合 | ||
【主权项】：
光致抗蚀剂或半导体制造残余物剥离和清洁组合物，其包含水、一种或多种碱性化合物、一种或多种腐蚀抑制剂、和一种或多种抗氧化剂的一种或多种氧化产物。
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