[发明专利]具有不同的局部单元几何形状的半导体切换器件有效

专利信息
申请号: 201510343497.1 申请日: 2015-06-19
公开(公告)号: CN105206654B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: C.法赫曼;E.贝西诺巴斯克斯 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 王岳;胡莉莉
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及具有不同的局部单元几何形状的半导体切换器件。半导体器件包括半导体衬底,其具有外轮缘、限定有源区域的多个可切换单元以及布置在限定有源区域的可切换单元和外轮缘之间的边缘终止区。可切换单元中的每一个包括主体区、栅电极结构和源极区。源极金属化与可切换单元的源极区欧姆接触。栅极金属化与可切换单元的栅电极结构欧姆接触。由可切换单元限定的有源区域包括具有与第二可切换区的栅极‑漏极比电容不同的栅极‑漏极比电容的至少第一可切换区。
搜索关键词: 具有 不同 局部 单元 几何 形状 半导体 切换 器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:半导体衬底,包括外轮缘、限定有源区域的多个可切换单元以及布置在限定所述有源区域的所述可切换单元和所述外轮缘之间的边缘终止区,其中所述可切换单元中的每一个包括主体区、栅电极结构和源极区;与所述可切换单元的所述源极区欧姆接触的源极金属化;以及与所述可切换单元的所述栅电极结构欧姆接触的栅极金属化;其中由所述可切换单元限定的所述有源区域包括具有与第二可切换区的栅极‑漏极比电容不同的栅极‑漏极比电容的至少第一可切换区;以及其中在所述第一可切换区和所述第二可切换区中的所述可切换单元的栅极‑漏极比电容随着所述可切换单元与所述栅极金属化之间的距离增加而减小。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技奥地利有限公司,未经英飞凌科技奥地利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510343497.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top