[发明专利]局部线圈有效

专利信息
申请号: 201210435852.4 申请日: 2012-11-05
公开(公告)号: CN103105598A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: D.德莱梅尔;H.格雷姆;S.沃尔夫 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G01R33/3415 分类号: G01R33/3415;A61B5/055
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于磁共振断层成像设备(101)的局部线圈(106),所述局部线圈(106)具有多个天线元件(1至5),其中,天线元件(1至5)分别具有两个布置在绝缘体(10)的相互对置的侧(O,U)上的导线线路(7),并且所述导线线路(7)以穿过绝缘体(10)的穿孔(9)相互导电连接,其中,在其内至少两个天线元件(图4中的3、5和1)的导线线路(7)交叉的区域(c)中,所述天线元件(图4中的3、5和1)中的至少一个仅在绝缘体(10)的一侧(O;U)上具有导线线路(7)。
搜索关键词: 局部 线圈
【主权项】:
一种用于磁共振断层成像设备(101)的局部线圈(106),所述局部线圈(106)具有多个天线元件(1至5),其中,天线元件(1至5)分别具有两个布置在绝缘体(10)的相互对置的侧(O,U)上的导线线路(7),并且所述导线线路(7)以穿过绝缘体(10)的穿孔(9)相互导电连接,其中,在其内至少两个天线元件(图4中的3,5和1)的导线线路(7)交叉的至少一个区域(c)中,所述天线元件(图4中的3,5和1)中的至少一个仅在绝缘体(10)的一侧(O;U)上具有导线线路(7)。
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