[发明专利]一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法有效

申请号：	201510131189.2	申请日：	2015-03-24
公开（公告）号：	CN104730857B	公开（公告）日：	2019-05-17
发明（设计）人：	李淑君;黄秋蓉	申请（专利权）人：	南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
主分类号：	G03F1/54	分类号：	G03F1/54;G03F7/20;G02F1/1337
代理公司：	暂无信息	代理人：	暂无信息
地址：	210033 江苏省南京市仙林大道科***	国省代码：	江苏;32
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摘要：	本发明提供一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法，所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板，将第一掩膜板从左至右对彩膜基板进行曝光，全曝光像素单元的A1部分和部分曝光像素单元的B1部分；将第二掩膜板从右至左对彩膜基板进行曝光，全曝光像素单元的A2部分和部分曝光像素单元的B2部分。本发明通过改变曝光的掩膜板的设计，使得彩膜基板曝光时上半个像素单元和下半个像素单元的曝光强度不同或者曝光时间不同导致，上半个像素单元和下半个像素单元的预倾角不同，当施加相同的电压时，彩膜基板上的上半个像素单元和下半个像素单元的透过率不同，从而实现8畴结构。
搜索关键词：	一种液晶显示面板掩膜板使用曝光方法
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【主权项】：

1.一种液晶显示面板的掩膜板，该掩膜板用于液晶显示面板的彩膜基板上的曝光，所述掩膜板包括第一、第二、第三以及第四掩膜板，其特征在于：第一掩膜板的曝光区域，从上至下等序均分为8个区域，其中，第一、第三、第五以及第七均为全曝光区域，其他区域均为全遮光区域；第二掩膜板的曝光区域，从上至下也等序均分为8个区域，其中，第二、第四、第六以及第八均为全曝光区域，其他区域均为全遮光区域；第三掩膜板的曝光区域，从上至下也等序均分为8个区域，其中，第三和第七区域均为全曝光区域，其他区域均为全遮光区域；第四掩膜板的曝光区域，从上至下也等序均分为8个区域，其中，第四和第八区域均为全曝光区域，其他区域均为全遮光区域。

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申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明提供一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法，所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板，将第一掩膜板从左至右对彩膜基板进行曝光，全曝光像素单元的A1部分和部分曝光像素单元的B1部分；将第二掩膜板从右至左对彩膜基板进行曝光，全曝光像素单元的A2部分和部分曝光像素单元的B2部分。本发明通过改变曝光的掩膜板的设计，使得彩膜基板曝光时上半个像素单元和下半个像素单元的曝光强度不同或者曝光时间不同导致，上半个像素单元和下半个像素单元的预倾角不同，当施加相同的电压时，彩膜基板上的上半个像素单元和下半个像素单元的透过率不同，从而实现8畴结构。

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摘要：本公开部分实施例提供一种适用于搜集用于影像错误补偿的信息的光罩。上述光罩包括一基板。上述光罩还包括形成于基板上的一第一黑色边界结构以及一第二黑色边界结构。第一黑色边界结构以及第二黑色边界结构对基板的一中心同心分布。上述光罩也包括形成于基板上方的一第一图像结构以及一第二图像结构。第一图像结构以及第二图像结构各自代表着待图案化至一半导体晶圆的多个特征的图案。第二图像结构、第二黑色边界结构、第一图像结构及第一黑色边界结构在远离基板的中心的一方向上按序排列。

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摘要：本发明涉及一种掩膜模具及其制备三维结构的方法。本发明的掩膜模具主要由衬底（1）、模具结构层（2）、掩膜层（3）构成，所述衬底（1）具有透光性，所述掩膜层（3）具有遮光性，所述掩膜层（3）的全部图案或部分图案与所述模具结构层（2）的全部图案或部分图案相同或相似。使用掩膜模具制备三维结构的方法包括以下步骤：一是在掩膜模具的模具结构层（2）内填充光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料，二是曝光，使所述光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料固化，三是使所述的已固化的光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料从掩膜模具中脱离。本发明实现对成型材料的选择性固化，有效扩大了应用范围。

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摘要：本公开提供一种掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法。所述掩膜板的制作方法包括：提供一衬底，该衬底具有相对设置的第一表面和第二表面；在所述第一表面上形成遮光层，所述遮光层包括多个遮光区域，相邻的所述遮光区域之间构成透光区域；在所述第一表面和所述第二表面中任一一个表面上对应于所述透光区域的位置形成凸透镜结构，所述凸透镜结构的折射率大于所述衬底的折射率。本公开形成的折射率大于衬底的凸透镜结构，能够使通过该透光区域的光线发生聚集，减小光的半峰宽，实现布线区线路的细线化制作。

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摘要：本发明公开了一种掩膜版，包括：平行设置的第一遮光板和第二遮光板以及固定第一遮光板和第二遮光板的控制平台，第一遮光板位于待配向基板的上方，第二遮光板位于第一遮光板的上方；控制平台带动第一遮光板和第二遮光板沿第一方向和第二方向同步运动，第一遮光板包括至少一个第一透光区，第一透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第一透光单元所述第一透光单元的周围为第一遮光区，第二遮光板包括至少一个第二透光区，第二透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第二透光单元，第二透光单元的周围为第二遮光区，第一方向和第二方向相互垂直，可以解决现有掩膜版叠加造成产品不良问题，同时可以降低成本，提升产品的质量。

一种光罩及接触孔的制作方法-201810284730.7
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摘要：本发明提供一种光罩和接触孔的制作方法，其中，光罩包括：与待制作的接触孔对应的圆形透光孔；围绕圆形透光孔且与其同心的圆环形狭缝区，圆环形狭缝区用于在通过PFA工艺形成的平坦层上形成接触孔的孔壁，并分布有至少一个遮光区和至少一个透光区；接触孔的制作方法包括：形成自下而上依次叠层的金属层、绝缘层和钝化层；在所述钝化层上通过PFA工艺形成平坦层；采用所述的光罩对所述平坦层进行光刻，形成第一接触孔；以所述平坦层为自对准光罩，采用干蚀刻工艺对所述绝缘层和钝化层进行蚀刻，在所述第一接触孔下方对应形成第二接触孔，所述金属层至少部分地暴露于第一接触孔和第二接触孔。本发明通过对光罩的创新设计，可以提高蚀刻速率。

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摘要：本发明提供一种掩膜板及阵列基板，所述掩膜板包括遮光区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边之间的夹角大于或小于45度，或者，所述辅助遮光块的所述第三边与所述第二边之间的夹角大于或小于45度。

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摘要：本发明提供一种掩膜版及其曝光方法、以及液晶显示面板，掩膜版上设有图形区和位于图形区外的遮光带，图形区内设有3个曝光区域，分别为第一曝光区域、第二曝光区域、和第三曝光区域；遮光带内设有狭缝区域；所述图形区内设有纵横交错的曝光源极线和曝光栅极线，曝光源极线的中间呈断开状，曝光栅极线为一条连续的线条。采用本发明的方法，形成拼接液晶显示面板，且在拼接液晶显示面板的源极线和栅极线的中间均呈断开状；本发明能解决画面失真，闪烁，运动画面模糊等问题，同时能降低制造难度和生产成本。

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摘要：本发明公开了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，主要内容包括：通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩膜基板的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面与四周区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面在同一水平面内，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。

光罩、显示面板及其非显示部的制作方法-201711460267.9
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摘要：本发明公开了一种光罩，其包括多个全透光部和多个遮光部，所述全透光部和所述遮光部交替设置，所述遮光部包括不透光子部以及设置于所述不透光子部和所述全透光部之间的N个透光子部，所述N个透光子部的透光率沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向依次增大，N≥2且N为整数。本发明通过改进光罩结构，以使利用改进后的光罩形成的非显示部的平坦层中的凹槽的槽壁平整光滑，并且该凹槽的槽壁的坡度平缓，从而不会使后续制程中不会出现光阻残留的现象。

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摘要：本申请公开了一种在负性光阻图形上形成过孔的光罩结构、方法和应用，该光罩结构包括与过孔对应的遮光部，每个所述遮光部分别定义有一中心遮光区、以及分布于中心遮光区四周的外围遮光区，所述外围遮光区在遮光部的至少一个径向方向阵列分布有多个上下镂空的狭缝，所述狭缝宽度满足bn＞bn+1，其中，bn和bn+1分别为相邻两个狭缝的宽度，且bn相对所述bn+1的狭缝远离所述中心遮光区。本发明通过在遮光部上开设阵列的多个镂空的狭缝，提高过孔位置的曝光量，以在过孔边缘形成缓和的坡度，改善像素电极和薄膜晶体管金属层信号线之间的电连接质量，同时减少后制程保护层的断膜，提高产品品质和良率。

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摘要：本发明公开了一种UV Mask及其制作方法，包括通过彩色滤光层掩模板和黑矩阵掩模板在衬底基板上形成遮光层；或者，通过彩色滤光层掩模板在衬底基板上形成遮光层；衬底基板表面区域的大小设置为与显示装置面板中显示区和M区的大小相等；M区位于显示区外侧和封框胶内侧之间的区域，且M区靠近显示区的边界线与显示区的边界线重合。通过本发明能够解决采用专门的掩模板（Mask）来制作UV Mask造成的显示装置的制作成本高的问题。

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摘要：本发明提供一种用于光配向的光罩及光配向方法，通过设置所述光罩中组成第一光罩图形的第一透光图案的末端对齐，组成第二光罩图形的第二透光图案的前端对齐，使得在光配向过程中，所述第一基板单元的末端和第二基板单元的前端不存在未曝光或者曝光不足的区域，解决了传统的光配向制程中因存在未曝光或者曝光不足的区域导致的显示器亮度不均匀等问题，同时有利于缩小基板上第一基板单元与第二基板单元之间的距离，从而提高基板利用率。

一种掩膜板-201621175982.9
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一种掩模板、采用其制备下基板的方法和该方法的应用-201610808968.6
发明人：周国富;吴昊;李发宏;罗伯特·安德鲁·海耶斯 -专利权人：深圳市国华光电科技有限公司;华南师范大学;深圳市国华光电研究院
申请日： 2016-09-05 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明公开了一种掩模板、采用其制备下基板的方法和该方法的应用，掩模板包括掩模板主体，掩模板主体上设有透光区域和遮光区域，透光区域的图案与像素墙图案相同，遮光区域为多个呈阵列排列的离散区域，每个遮光区域的边缘区域设有减弱透光量结构；通过设置减弱透光量结构，将掩模板用于制备下基板，遮光区域的边缘区域的曝光量小于透光区域，使用负性光刻胶，曝光量的减小会使得像素墙的壁的横截面形状为倒梯形，在填充的液体的表面张力和倒梯形形成的毛细管力的作用下，填充的液体会铺展在所述像素墙形成的凹陷内，并且倒梯形的像素墙上表面边缘可以有效阻止液体填充后流入相邻像素格，能够实现液体的均匀填充。

一种掩膜板、阵列基板、其制作方法及显示装置-201610371606.5
发明人：吕振华;米磊;尤杨;薛艳娜;王磊;李治福 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明公开了一种掩膜板、阵列基板、其制作方法及显示装置，掩膜板包括间隔设置的遮光区域和透光区域，以及设置在至少部分遮光区域与透光区域之间的半透光区域；半透光区域具有锯齿状图形。由于现有的掩膜板中半透光区域相对应的区域为遮光区域，使用现有曝光设备进行曝光时，透光区域的曝光不足，使透光区域本该被曝光的区域仍存在粘连，从而影响曝光线度。因此，通过在至少部分遮光区域与透光区域之间设置半透光区域，在同等曝光条件下，可以提高透光区域的曝光强度，从而可以进一步减小曝光线度，使得TFT沟道的长度减小，使其符合高PPI的生产需求；还可以减小布线区的线距，缩小布线区占用空间，使其符合窄边框要求。

一种掩膜板及阵列基板-201610463838.3
发明人：徐德智 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明提供一种掩膜板及阵列基板。其中掩膜板用以形成阵列基板上绝缘层的图形，所述绝缘层包括有过孔，所述掩膜板包括：对应所述过孔的第一区域，所述第一区域设置有半透光图形。本发明的掩膜板在对应的过孔区域上设置有半透光图形，基于该半透光图形的设计，在对绝缘层过孔区域上方的光刻胶层进行曝光后，可在绝缘层过孔区域上方保留一层厚度较薄的光刻胶图形，该光刻胶图形可以降低刻蚀气体刻蚀程度，从而避免绝缘层过孔区域下方的金属保护层被刻穿，最终导致金属层受到氧化后降低导电性能。

隔垫物及其制造装置-201510583558.1
发明人：刘桓;王醉;郭晋波;罗时勲 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2015-09-14 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明公开了一种隔垫物制造装置，包括光罩和与所述光罩正对的曝光装置，所述光罩包括中心透光区和设于所述中心透光区外围的外围透光区，所述曝光装置发出的光线透过所述光罩后照射到负向光阻材料上，透过所述外围透光区的光线强度小于透过所述中心透光区的光线强度。本发明还公开了一种隔垫物。本发明只需一次曝光工艺即可实现“凸”字状隔垫物的制作，工艺简单，隔垫物制造成本低。同时，使用本发明的隔垫物制造装置制作的“凸”字状隔垫物的凸肩部的平整度可调，可以满足不同规格的隔垫物制造需求。

制作薄膜晶体管的掩模板及用该掩模板制作的薄膜晶体管-201510187534.4
发明人：高冬子 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2015-04-20 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： G03F1/54
摘要：本发明公开一种制作薄膜晶体管的掩模板，所述掩模板包括弯折部(10)以及分别位于所述弯折部(10)两侧的直道部(20)，所述弯折部(10)与所述直道部(20)之间的第一缝隙(12)被设置为半透光，所述直道部(20)内部的第二缝隙(22)被设置为全透光。相较于现有技术，由于本发明的掩模板的第一缝隙被设置为半透光，且第一缝隙的宽度增大，由此在制作薄膜晶体管时，可以提高弯折部处的第一缝隙的光线穿过率来避免薄膜晶体管的沟道的弯折区域中出现的源漏极短路等不良问题，同时可以更精确地图案化薄膜晶体管的沟道结构。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法有效

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