[发明专利]提供绝缘体上硅衬底上的波导的光学隔离的方法及结构

摘要

本发明揭示一种提供绝缘体上硅衬底的方法及结构，光子装置形成于所述绝缘体上硅衬底上，且在所述绝缘体上硅衬底中，波导的芯材料通过浅沟槽隔离区域与支撑衬底光学解耦。

主权项

一种形成集成结构的方法，所述方法包括以下动作：提供具有上表面的第一衬底；在提供所述第一衬底之后，从所述上表面移除仅部分地穿过所述第一衬底的厚度的材料以在所述第一衬底的所述上表面中形成浅沟槽隔离区域；在形成所述浅沟槽隔离区域之后，在所述上表面上和所述浅沟槽隔离区域内沉积具有第一折射率的介电材料；平面化所述介电材料以使得所述介电材料填充所述浅沟槽隔离区域；在第二衬底上形成光子区；将所述第一衬底与所述第二衬底接合在一起，使得所述第一衬底的所述上表面朝向所述第二衬底，并且所述浅沟槽隔离区域与所述光子区对准；以及在所述光子区内形成波导，其中，所述波导包括由具有大于所述第一折射率的第二折射率的材料形成的芯。