[发明专利]等离子体处理装置及其隔离装置在审
| 申请号： | 201310596754.3 | 申请日： | 2013-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN104658845A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 左涛涛;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体处理装置及其机械隔离装置，其中，所述机械隔离装置包括:挡片，其形状能够完全挡住所述基片传输门和所述衬垫的开口，所述挡片下方连接有一支撑柱；伸缩装置，所述支撑柱穿过所述伸缩装置；上支撑板，其设置于所述波纹管上方，其另一端固定于腔室侧壁上下支撑板，其设置于所述波纹管下方；设置于所述上支撑板和所述下支撑板之间的执行装置，所述执行装置能够上下移动，并通过所述下支撑板带动支撑柱上下移动，以使得所述挡片上下移动，从而控制所述基片传输门和所述衬垫开口的连通与否，其中，所述支撑柱下方连接有加热装置，所述支撑柱和加热装置通过金属线相连。本发明能够保证所述挡片和衬垫的温度一致性，提高基片的温度均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 及其 隔离 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理装置的机械隔离装置，其设置在等离子体处理装置的基片传输门和衬垫之间，其中，所述基片传输门设置于所述等离子体处理装置的侧壁上，所述衬垫是环状的，其从所述等离子体处理装置的顶盖上方延伸入腔室内部并设置于所述基片上方的周围，在所述衬垫上设置有一开口，其中，所述机械隔离装置包括:挡片，其形状能够完全挡住所述基片传输门和所述衬垫的开口，所述挡片下方连接有一支撑柱；伸缩装置，所述支撑柱穿过所述伸缩装置；上支撑板，其设置于所述波纹管上方，其另一端固定于腔室侧壁上；下支撑板，其设置于所述波纹管下方；设置于所述上支撑板和所述下支撑板之间的执行装置，所述执行装置能够上下移动，并通过所述下支撑板带动支撑柱上下移动，以使得所述挡片上下移动，从而控制所述基片传输门和所述衬垫开口的连通与否，其中，所述支撑柱下方连接有加热装置，所述支撑柱和加热装置通过金属线相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备（上海）有限公司;，未经中微半导体设备（上海）有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310596754.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种直接分析固体样品的电喷雾电离装置
- 下一篇：一种电极连接牢固的双端灯
