[发明专利]用悬置石墨烯膜形成的纳米器件有效

专利信息
申请号: 201310030301.4 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103227203A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 朱文娟 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336;B82Y40/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 于静;张亚非
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用悬置石墨烯膜形成的纳米器件。使用在半导体结构的开放腔之间悬置的石墨烯膜构造诸如纳米探针和纳米刀器件的半导体纳米器件。所述悬置的石墨烯膜用作机电膜,所述机电膜可被制造为非常薄,厚度为一个原子或数个原子的厚度,从而极大地提高了半导体纳米探针和纳米刀器件的灵敏度和可靠度。
搜索关键词: 悬置 石墨 形成 纳米 器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:底栅电极;第一绝缘层,其被设置在所述底栅电极之上,所述第一绝缘层包括与所述底栅电极对准的第一开放腔;第二绝缘层,其被设置在所述第一绝缘层之上,所述第二绝缘层包括与所述第一开放腔对准的第二开放腔;石墨烯层,其被设置在所述第一和第二绝缘层之间,其中所述石墨烯层的一部分悬置在所述第一和第二开放腔之间;至少一个感测电极,其被设置在所述石墨烯层上并邻近所述第一和第二开放腔;细长纳米结构,其被安装到所述石墨烯层的悬置在所述第一和第二开放腔之间的所述一部分上;以及顶栅电极,其被设置在所述第二绝缘层之上,所述顶栅电极与所述底栅电极以及所述第一和第二开放腔对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310030301.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top