[发明专利]半导体装置的制造方法、半导体装置无效
申请号: | 201310012644.8 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN103681385A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 佐藤慧 | 申请(专利权)人: | 三垦电气株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/56;H01L23/488;B23K1/00;B23K35/363 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供半导体装置的制造方法、半导体装置,其通过简易的制造方法获得利用焊锡进行接合情况下的高可靠性。首先,使温度上升到预热温度(区域Ⅰ:升温步骤)。接着,该预热温度被保持50~120秒钟(区域Ⅱ:预热步骤)。预热温度为比环氧树脂的硬化温度(180℃)低20~40℃的温度,这里约为150℃。然后,使峰值温度为比金属粒子(焊锡)52的熔点(220℃)高的260~280℃范围,例如为250℃,并保持30~50秒钟(区域Ⅲ:熔化步骤)。在该制造方法中,在预热步骤中,成为在未硬化的状态下焊剂包围半导体芯片的外周部的形态。然后,在熔化步骤中,密集状态的金属粒子熔化并熔合。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置的制造方法,将焊锡膏夹在半导体芯片与金属板之间来接合所述半导体芯片和所述金属板,该制造方法的特征在于,所述焊锡膏包含85重量百分比~90重量百分比的金属粒子、作为焊剂的环氧树脂、具有活化效果的硬化剂和活化剂,该制造方法具有芯片焊接步骤,在该芯片焊接步骤中,在焊锡接合后,利用未硬化的所述环氧树脂覆盖焊锡接合的外周侧面和所述半导体芯片的外周侧面的至少一部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三垦电气株式会社,未经三垦电气株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310012644.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带压力监测功能的桥梁支座
- 下一篇:一种物料混料机的使用方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造