[发明专利]用于等离子体鞘电压控制的系统、方法和装置在审

专利信息
申请号: 201280055163.9 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN104955980A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 阿列克谢·马拉赫塔诺夫;拉金德尔·迪恩赛;埃里克·赫德森;安德鲁·D·贝利三世 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于增加从等离子体射出的离子的能量水平的系统、方法和装置包括:等离子体腔室,所述等离子体腔室包括上方电极和下方电极;多个RF源,所述RF源中的至少一个与所述下方电极耦合。锁相电路与RF源中的此后指定为第一RF源和第二RF源的至少两个RF源耦合。控制器与等离子体腔室、每一个RF源以及锁相电路耦合。控制器包括操作系统软件、多个逻辑电路和处理配方。
搜索关键词: 用于 等离子体 电压 控制 系统 方法 装置
【主权项】:
一种锁相等离子体腔室系统,其包括:等离子体腔室,其包括上方电极和下方电极;多个RF源,所述多个RF源中的至少一个与所述下方电极耦合;锁相电路,其与所述多个RF源中的此后指定为第一RF源和第二RF源的至少两个耦合;以及控制器,其与所述等离子体腔室、每一个所述多个RF源以及所述锁相电路耦合,所述控制器包括:操作系统软件;多个逻辑电路;以及处理配方。
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