[实用新型]基于硅衬底的薄型集成电路封装结构有效

专利信息
申请号: 201220740297.1 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN203013705U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 吕致纬 申请(专利权)人: 矽格微电子(无锡)有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种封装结构,尤其是一种基于硅衬底的薄型集成电路封装结构,属于半导体封装的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述基于硅衬底的薄型集成电路封装结构,包括硅衬底,所述硅衬底内凹设有封装槽,所述封装槽的底部及侧壁上覆盖有绝缘支撑层,且所述绝缘支撑层延伸封装槽槽口外侧的硅衬底表面;绝缘支撑层上覆盖有第一连接层,所述第一连接层上覆盖有第二连接层,IC芯片通过金属凸块与第二连接层电连接,第二连接层上设有连接电极,所述连接电极位于封装槽槽口的外侧。本实用新型结构紧凑,封装厚度能低于0.5mm,满足薄型化封装要求,安全可靠。
搜索关键词: 基于 衬底 集成电路 封装 结构
【主权项】:
一种基于硅衬底的薄型集成电路封装结构,其特征是:包括硅衬底(1),所述硅衬底(1)内凹设有封装槽(14),所述封装槽(14)的底部及侧壁上覆盖有绝缘支撑层(2),且所述绝缘支撑层(2)延伸封装槽(14)槽口外侧的硅衬底(1)表面;绝缘支撑层(2)上覆盖有第一连接层(3),所述第一连接层(3)上覆盖有第二连接层(4),IC芯片(9)通过金属凸块(6)与第二连接层(4)电连接,第二连接层(4)上设有连接电极(8),所述连接电极(8)位于封装槽(14)槽口的外侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽格微电子(无锡)有限公司,未经矽格微电子(无锡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220740297.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top