[发明专利]一种P型硅衬底的双PIN结双面太阳能电池有效
申请号: | 201210594986.0 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103066147A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 韩元杰;李新富;吴鹏飞;张冰;章志娟 | 申请(专利权)人: | 浙江金贝能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/077 | 分类号: | H01L31/077;H01L31/0352 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311500 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种P型硅衬底的双PIN结双面太阳能电池,包括P型硅衬底,P型硅衬底上下两个表面上均制成绒面,P型硅衬底上表面的绒面上高温磷扩散掺杂,并自下而上依次隔离层I、N型掺杂层、隔离层I和N-型掺杂层四层结构;最上一层再用PECVD技术实现SiN减反射膜;其中要在最后实行埋电极与输出极的制备;P型硅衬底下表面绒面上自上而下进行背面的高温硼扩散掺杂,依次形成隔离层I、P型掺杂层、P+型掺杂层的三层结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 衬底 pin 双面 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种P型硅衬底的双PIN结双面太阳能电池,其特征在于:包括P型硅衬底,P型硅衬底上下两个表面上均设有绒面,在P型硅衬底上表面的绒面上进行高温磷扩散掺杂,并自下而上依次形成隔离层I、N型掺杂层、隔离层I和N‑型掺杂层四层结构;最上一层再用PECVD技术实现SiN减反射膜;其中要在最后实行埋电极与输出极的制备;P型硅衬底下表面绒面上进行背面的高温硼扩散掺杂,自上而下依次形成隔离层I、P型掺杂层、P+型掺杂层的三层结构。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的