[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201210541065.8 | 申请日: | 2012-12-13 |
公开(公告)号: | CN103165677B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 安藤孝由 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L27/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人: | 李亚,穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与所述栅极电极连接,另一端分别与所述第1电极及第2电极连接,所述第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内,所述第1保护电路包括:第1导电型的第1中央部,配置于所述第1多晶硅层的中央部;第2导电型的第1带状部,呈环状配置于该第1中央部的外侧;以及第1导电型的第2带状部,呈环状配置于该第1带状部的外侧,所述第2保护电路包括:第1导电型的第2中央部,配置于所述第2多晶硅层的中央部;第2导电型的第3带状部,呈环状配置于该第2中央部的外侧;以及第1导电型的第4带状部,呈环状配置于该第3带状部的外侧,将所述第1中央部及第2中央部通过栅极布线膜共同与所述栅极电极连接,将所述第2带状部与所述第1电极连接,将所述第4带状部与所述第2电极连接,所述第1多晶硅层内的所述第2带状部在芯片边缘侧与所述第1电极连接,所述第2多晶硅层内的所述第4带状部在第2电极侧与所述第2电极连接。
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