[发明专利]IGBT及其元胞结构、以及IGBT的形成方法无效

专利信息
申请号: 201210520131.3 申请日: 2012-12-06
公开(公告)号: CN103855202A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 朱阳军;谈景飞;张杰;胡爱斌;卢烁今 申请(专利权)人: 江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 214135 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种IGBT及其元胞结构,和IGBT形成方法,其中,所述元胞结构包括:第一漂移区和位于第一漂移区下表面的第二漂移区,第一漂移区与第二漂移区的掺杂类型和浓度均相同;至少一个位于第一漂移区和第二漂移区之间的掺杂区,掺杂区的掺杂类型与第二漂移区的掺杂类型相同,且掺杂区的掺杂浓度大于第二漂移区的掺杂浓度;位于第二漂移区背离掺杂区一侧的集电区,集电区的掺杂类型与所述第二漂移区的掺杂类型相反,使得本发明所提供的IGBT具有良好的导通损耗与开关损耗之间的折中关系,整体性能比较高。
搜索关键词: igbt 及其 结构 以及 形成 方法
【主权项】:
一种IGBT元胞结构,其特征在于,包括:第一漂移区和位于所述第一漂移区下表面的第二漂移区,所述第一漂移区与所述第二漂移区的掺杂类型和浓度均相同;至少一个位于所述第一漂移区和第二漂移区之间的掺杂区,所述掺杂区的掺杂类型与所述第二漂移区的掺杂类型相同,且所述掺杂区的掺杂浓度大于所述第二漂移区的掺杂浓度;位于所述第二漂移区背离所述掺杂区一侧的集电区,所述集电区的掺杂类型与所述第二漂移区的掺杂类型相反。
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