[发明专利]曝光装置、器件制造方法无效
| 申请号： | 201210440298.9 | 申请日： | 2004-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102944981A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 小野一也;柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，通过投影光学系统和液体把图案像投影到基板上来对所述基板进行曝光，所述曝光装置包括：液浸机构，用液体充满所述投影光学系统和所述基板之间，在所述基板上的一部分上形成液浸区；以及基板台，保持并移动上述基板，所述投影光学系统包括：具有与所述液体接触的光学构件的第一群以及与所述第一群不同的第二群；通过使所述第一群移动的驱动机构来进行所述第一群相对于所述第二群的位置调整。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，通过投影光学系统和液体把图案像投影到基板上来对所述基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于：包括：液浸机构，用液体充满所述投影光学系统和所述基板之间，在所述基板上的一部分上形成液浸区；以及基板台，保持并移动上述基板，所述投影光学系统包括：具有与所述液体接触的光学构件的第一群以及与所述第一群不同的第二群；通过使所述第一群移动的驱动机构来进行所述第一群相对于所述第二群的位置调整。
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