[发明专利]一种有机双极型场效应晶体管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210377711.1 申请日: 2012-10-08
公开(公告)号: CN102856494A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 程晓曼;赵庚;田海军;吴仁磊;郑宏;杜博群;梁晓宇 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种有机双极型场效应晶体管,为在Al源、漏电极与P型有机半导体层之间插入V2O5修饰层的底栅中间接触结构,由衬底、栅电极、电介质绝缘层、P型有机半导体层、V2O5修饰层、Al源、Al漏电极和N型有机半导体层组成并依次叠加;其制备方法为:在玻璃衬底氧化铟锡栅电极上,甩膜旋涂绝缘层,在绝缘层上蒸镀P型有机半导体层,再利用掩膜板先后蒸镀V2O5修饰层和金属源、漏电极,最后在复合电极上蒸镀N型有机半导体层。本发明的优点:该结构器件可减小源、漏电极与P型有机半导体层之间的接触势垒,提高空穴的注入能力,实现良好平衡的双极型电流输出特性,是制备低成本、高性能的双极型有机场效应管较为简单适用的方法。
搜索关键词: 一种 有机 双极型 场效应 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种有机双极型场效应晶体管,其特征在于:为在Al源、漏电极与P型有机半导体层之间插入V2O5修饰层的底栅中间接触结构,由衬底、栅电极、电介质绝缘层、P型有机半导体层、V2O5修饰层、Al源、Al漏电极和N型有机半导体层组成并依次叠加,其中N型有机半导体层截面呈T型并分别与Al源、Al漏电极、V2O5修饰层和P型有机半导体层接触;所述衬底为玻璃;所述栅电极为氧化铟锡(ITO),电阻为10Ω/□,厚度为0.7cm;所述电介质绝缘层为有机物PMMA,Mw为996,000,厚度为390nm;所述P型有机半导体层为并五苯(Pentacene),纯度为99.99%,厚度为20nm;所述修饰层为过渡金属氧化物V2O5,纯度99.9%,厚度为10nm;所述N型有机半导体层为C60,纯度为99.9%,厚度为30nm。
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