[发明专利]一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210208418.2 申请日: 2012-06-25
公开(公告)号: CN102888193A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 储耀卿;徐家跃 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;H01L21/304;H01L33/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液,按重量百分比计算,其原料由2~30%的磨料、0.01~5%的螯合剂、0.01~10%的表面活性剂、0.01~10%的分散剂、0.1~20%的氧化剂和余量的去离子水组成。其制备方法即首先制备磨料二氧化硅溶胶,然后将所得二氧化硅溶胶在搅拌条件下依次加入螯合剂、表面活性剂、分散剂、氧化剂和去离子水,继续搅拌均匀后得到一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液。该化学机械抛光液对LED衬底表面无损伤、无划痕和无腐蚀坑、不污染环境;原材料价格便宜、成本低,适合工业化生产。
搜索关键词: 一种 led 衬底 蓝宝石 碳化硅 晶片 表面 处理 化学 机械抛光 及其 制备 方法
【主权项】:
一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液,其特征在于按重量百分比计算,其原料组分与含量如下:磨料                     2~30%螯合剂                  0.01~5%表面活性剂              0.01~10%分散剂                  0.01~10%氧化剂                  0.1~20%余量为去离子水;所述的磨料为采用溶胶法制备的水溶性的二氧化硅溶胶,且二氧化硅溶胶中SiO2胶体颗粒的粒径介于10nm~90nm; 所述的螯合剂为溶于水、无重金属离子的羟胺、柠檬酸铵或胺盐;所述的表面活性剂为聚氧乙烯烷基胺或烷基醇酰胺; 所述的分散剂为溶于水的聚醇、聚丙烯酸、聚胺盐或聚羧酸盐;所述的氧化剂为非金属过氧化物、次氯酸盐或高锰酸盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海应用技术学院,未经上海应用技术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210208418.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top